Substrat
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vergoldete Siliziumscheibe (Si-Wafer) 10 nm 50 nm 100 nm 500 nm Au Ausgezeichnete Leitfähigkeit für LED
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Goldbeschichtete Silizium-Wafer 2 Zoll 4 Zoll 6 Zoll Dicke der Goldschicht: 50 nm (± 5 nm) oder individuell anpassbar Beschichtungsfilm Au, 99,999 % Reinheit
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AlN-auf-NPSS-Wafer: Hochleistungs-Aluminiumnitridschicht auf unpoliertem Saphirsubstrat für Hochtemperatur-, Hochleistungs- und HF-Anwendungen
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AlN auf FSS 2 Zoll 4 Zoll NPSS/FSS AlN-Vorlage für den Halbleiterbereich
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Galliumnitrid (GaN), epitaktisch auf Saphir-Wafer 4 Zoll und 6 Zoll für MEMS gewachsen
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Präzisionslinsen aus monokristallinem Silizium (Si) – kundenspezifische Größen und Beschichtungen für Optoelektronik und Infrarotbildgebung
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Maßgeschneiderte Linsen aus hochreinem Silizium-Einkristall (Si) – Maßgeschneiderte Größen und Beschichtungen für Infrarot- und THz-Anwendungen (1,2–7 µm, 8–12 µm)
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Maßgeschneidertes optisches Stufenfenster aus Saphir, Al2O3-Einkristall, hohe Reinheit, Durchmesser 45 mm, Dicke 10 mm, lasergeschnitten und poliert
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Hochleistungs-Saphir-Stufenfenster, Al2O3-Einkristall, transparent beschichtet, kundenspezifische Formen und Größen für optische Präzisionsanwendungen
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Hochleistungs-Saphir-Hebestift, reiner Al2O3-Einkristall für Wafer-Transfersysteme – Sondergrößen, hohe Haltbarkeit für Präzisionsanwendungen
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Industrielle Saphir-Hubstange und -Stift, hochharter Al2O3-Saphirstift für Waferhandhabung, Radarsysteme und Halbleiterverarbeitung – Durchmesser 1,6 mm bis 2 mm
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Maßgeschneiderter Saphir-Hebestift, optische Al2O3-Einkristallteile mit hoher Härte für den Wafertransfer – Durchmesser 1,6 mm, 1,8 mm, anpassbar für industrielle Anwendungen