Substrat
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Epitaktisch gewachsenes Galliumnitrid (GaN) auf Saphirwafern (4 Zoll, 6 Zoll) für MEMS
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Präzisions-Monokristallin-Silizium-Linsen (Si) – Kundenspezifische Größen und Beschichtungen für Optoelektronik und Infrarotbildgebung
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Kundenspezifische hochreine Einkristall-Siliziumlinsen (Si) – Maßgeschneiderte Größen und Beschichtungen für Infrarot- und THz-Anwendungen (1,2–7 µm, 8–12 µm)
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Maßgefertigtes, stufenförmiges optisches Fenster aus Saphir, Al2O3-Einkristall, hohe Reinheit, Durchmesser 45 mm, Dicke 10 mm, lasergeschnitten und poliert
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Hochleistungs-Saphir-Stufenfenster, Al₂O₃-Einkristall, transparent beschichtet, kundenspezifische Formen und Größen für optische Präzisionsanwendungen
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Hochleistungs-Saphir-Hebestift, reiner Al₂O₃-Einkristall für Wafer-Transfersysteme – kundenspezifische Größen, hohe Langlebigkeit für Präzisionsanwendungen
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Industrieller Saphir-Hebestab und -Stift, hochfester Al2O3-Saphirstift für Wafer-Handling, Radarsysteme und Halbleiterverarbeitung – Durchmesser 1,6 mm bis 2 mm
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Kundenspezifischer Saphir-Hebestift, optische Bauteile aus hochfestem Al₂O₃-Einkristall für Wafer-Transfer – Durchmesser 1,6 mm, 1,8 mm, anpassbar für industrielle Anwendungen
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Saphirkugellinse, optisch hochwertiges Al₂O₃-Material, Transmissionsbereich 0,15–5,5 µm, Durchmesser 1 mm, 1,5 mm
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Saphirkugel, Durchmesser 1,0 1,1 1,5 mm, für optische Kugellinsen, hochharter Einkristall
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Saphirglas, farbiges Saphirglas für Uhren, anpassbarer Durchmesser 40/38 mm, Dicke 350 µm/550 µm, hochtransparent
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InSb-Wafer 2 Zoll 3 Zoll undotiert N-Typ P-Typ Orientierung 111 100 für Infrarotdetektoren