6-Zoll-Siliziumkarbid-Wafer (150 mm) vom Typ 4H-N für MOS- oder SBD-Produktion, Forschung und Dummy-Qualität

Kurzbeschreibung:

Das 6-Zoll-Siliziumkarbid-Einkristallsubstrat ist ein Hochleistungsmaterial mit exzellenten physikalischen und chemischen Eigenschaften. Hergestellt aus hochreinem Siliziumkarbid-Einkristallmaterial, zeichnet es sich durch hervorragende Wärmeleitfähigkeit, mechanische Stabilität und hohe Temperaturbeständigkeit aus. Dank präziser Fertigungsprozesse und hochwertiger Materialien hat sich dieses Substrat zum bevorzugten Material für die Herstellung hocheffizienter elektronischer Bauelemente in verschiedenen Anwendungsbereichen entwickelt.


Merkmale

Anwendungsgebiete

Das 6-Zoll-Siliziumkarbid-Einkristallsubstrat spielt in zahlreichen Branchen eine entscheidende Rolle. Zum einen findet es breite Anwendung in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Hochleistungselektronikbauteilen wie Leistungstransistoren, integrierten Schaltungen und Leistungsmodulen. Seine hohe Wärmeleitfähigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit ermöglichen eine bessere Wärmeableitung, was zu verbesserter Effizienz und Zuverlässigkeit führt. Zum anderen sind Siliziumkarbid-Wafer in der Forschung für die Entwicklung neuer Materialien und Bauelemente unerlässlich. Darüber hinaus finden Siliziumkarbid-Wafer vielfältige Anwendungen im Bereich der Optoelektronik, beispielsweise bei der Herstellung von LEDs und Laserdioden.

Produktspezifikationen

Das 6-Zoll-Siliziumkarbid-Einkristallsubstrat hat einen Durchmesser von 6 Zoll (ca. 152,4 mm). Die Oberflächenrauheit beträgt Ra < 0,5 nm, und die Dicke liegt bei 600 ± 25 μm. Das Substrat kann je nach Kundenwunsch mit N- oder P-Leitung ausgestattet werden. Darüber hinaus zeichnet es sich durch eine außergewöhnliche mechanische Stabilität aus und ist druck- und vibrationsbeständig.

Durchmesser 150±2,0 mm (6 Zoll)

Dicke

350 μm ± 25 μm

Orientierung

Auf der Achse: <0001>±0,5°

Abweichung von der Achse: 4,0° in Richtung 1120±0,5°

Polytyp 4H

Spezifischer Widerstand (Ω·cm)

4H-N

0,015~0,028 Ω·cm/0,015~0,025 Ohm·cm

4/6H-SI

>1E5

Primäre flache Ausrichtung

{10-10}±5,0°

Primäre flache Länge (mm)

47,5 mm ± 2,5 mm

Rand

Fase

TTV/Bow /Warp (um)

≤15 /≤40 /≤60

AFM-Vorderseite (Si-Seite)

Polnische Ra≤1 nm

CMP Ra≤0,5 nm

LTV

≤3μm (10 mm * 10 mm)

≤5μm (10 mm * 10 mm)

≤10μm (10 mm * 10 mm)

TTV

≤5μm

≤10μm

≤15μm

Orangenschalen/Narben/Risse/Verunreinigungen/Flecken/Streifen

Keiner Keiner Keiner

Einzüge

Keiner Keiner Keiner

Das 6-Zoll-Siliziumkarbid-Einkristallsubstrat ist ein Hochleistungsmaterial, das in der Halbleiter-, Forschungs- und Optoelektronikindustrie weit verbreitet ist. Es bietet hervorragende Wärmeleitfähigkeit, mechanische Stabilität und Hochtemperaturbeständigkeit und eignet sich daher für die Herstellung von Hochleistungselektronikbauteilen und die Materialforschung. Wir bieten verschiedene Spezifikationen und Anpassungsmöglichkeiten, um den unterschiedlichen Kundenanforderungen gerecht zu werden.Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen zu Siliziumkarbid-Wafern!

Detailliertes Diagramm

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