8 Zoll 200 mm Siliziumkarbid-SiC-Wafer 4H-N-Typ, Produktionsqualität, 500 µm Dicke

Kurze Beschreibung:

Shanghai Xinkehui Tech.Co., Ltd bietet die beste Auswahl und Preise für hochwertige Siliziumkarbid-Wafer und -Substrate bis zu 8 Zoll Durchmesser mit N- und halbisolierenden Typen.Kleine und große Halbleitergerätehersteller und Forschungslabore weltweit nutzen und verlassen sich auf unsere Siliziumkarbid-Wafer.

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Produktdetail

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200 mm 8 Zoll SiC-Substratspezifikation

Größe: 8 Zoll;

Durchmesser: 200 mm ± 0,2;

Dicke: 500 um ± 25;

Oberflächenausrichtung: 4 in Richtung [11-20] ±0,5°;

Kerbenausrichtung:[1-100]±1°；

Kerbtiefe: 1 ± 0,25 mm；

Mikrorohr: <1cm2;

Sechskantplatten: Nicht zulässig;

Spezifischer Widerstand: 0,015–0,028 Ω;

EPD:<8000cm2;

TED:<6000cm2

BPD: <2000 cm2

TSD: <1000 cm2

SF: Fläche <1 %

TTV≤15um；

Warp≤40um；

Bogen≤25um；

Polyflächen: ≤5 %;

Kratzer: <5 und kumulative Länge < 1 Waferdurchmesser;

Chips/Einkerbungen: Keine erlauben D>0,5 mm Breite und Tiefe;

Risse: Keine;

Fleck: Keiner

Waferkante: Fase;

Oberflächenbeschaffenheit: Double Side Polish, Si Face CMP;

Verpackung: Multi-Wafer-Kassette oder Einzelwafer-Behälter;

Die aktuellen Schwierigkeiten bei der Herstellung von 200 mm großen 4H-SiC-Kristallen sind hauptsächlich

1) Die Herstellung hochwertiger 200 mm großer 4H-SiC-Impfkristalle;

2) Kontrolle der Ungleichmäßigkeit des großen Temperaturfeldes und des Keimbildungsprozesses;

3) Die Transporteffizienz und Entwicklung gasförmiger Komponenten in großen Kristallwachstumssystemen;

4) Kristallrisse und Defektvermehrung aufgrund großer thermischer Spannungserhöhung.

Um diese Herausforderungen zu meistern und qualitativ hochwertige 200-mm-SiC-Wafer zu erhalten, werden folgende Lösungen vorgeschlagen:

Im Hinblick auf die Herstellung von 200-mm-Impfkristallen wurden ein geeignetes Temperaturfeld und eine expandierende Baugruppe untersucht und entworfen, um die Kristallqualität und die expandierende Größe zu berücksichtigen.Beginnen Sie mit einem 150 mm großen SiC-Se:d-Kristall und führen Sie eine Impfkristalliteration durch, um die SiC-Kristallgröße schrittweise zu erweitern, bis sie 200 mm erreicht.Optimieren Sie durch mehrfaches Kristallwachstum und -verarbeitung schrittweise die Kristallqualität im Kristallexpansionsbereich und verbessern Sie die Qualität von 200-mm-Impfkristallen.

Im Hinblick auf die Vorbereitung von leitenden 200-mm-Kristallen und Substraten hat die Forschung das Temperaturfeld- und Strömungsfelddesign für das Kristallwachstum großer Größen optimiert, das 200-mm-leitende SiC-Kristallwachstum durchgeführt und die Gleichmäßigkeit der Dotierung gesteuert.Nach der groben Bearbeitung und Formung des Kristalls wurde ein elektrisch leitfähiger 4H-SiC-Barren von 8 Zoll mit einem Standarddurchmesser erhalten.Nach dem Schneiden, Schleifen, Polieren und Bearbeiten erhält man 200-mm-SiC-Wafer mit einer Dicke von etwa 525 µm