Substrat
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2-Zoll-Siliziumkarbid-Wafer Typ 6H-N, erstklassige Qualität, Forschungsqualität, Dummy-Qualität, 330 μm 430 μm Dicke
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2 Zoll Siliziumkarbidsubstrat 6H-N, doppelseitig poliert, Durchmesser 50,8 mm, Produktionsqualität, Forschungsqualität
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p-Typ 4H/6H-P 3C-N TYP SIC-Substrat 4 Zoll 〈111〉± 0,5° Null MPD
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SiC-Substrat P-Typ 4H/6H-P 3C-N 4 Zoll mit einer Dicke von 350 µm Produktionsqualität Dummy-Qualität
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4H/6H-P 6-Zoll-SiC-Wafer Null-MPD-Klasse Produktionsklasse Dummy-Klasse
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P-Typ-SiC-Wafer 4H/6H-P 3C-N, 6 Zoll, Dicke 350 μm, mit primärer flacher Ausrichtung
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TVG-Prozess auf Quarz-Saphir-BF33-Wafer Glas-Wafer-Stanzen
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Einkristalliner Siliziumwafer Si-Substrattyp N/P Optionaler Siliziumkarbidwafer
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N-Typ-SiC-Verbundsubstrate, Durchmesser 6 Zoll, hochwertiges monokristallines und minderwertiges Substrat
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Halbisolierendes SiC auf Si-Verbundsubstraten
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Halbisolierende SiC-Verbundsubstrate Dia2inch 4inch 6inch 8inch HPSI
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Synthetischer Saphir-Boule, monokristalliner Saphir-Rohling. Durchmesser und Dicke können individuell angepasst werden.