Gemustertes Saphir -Substrat PSS 2 Zoll 4 Zoll 6 Zoll ICP -Trockenätzchen können für LED -Chips verwendet werden

Kurzbeschreibung:

Das strukturierte Saphir -Substrat (PSS) ist ein Substrat, auf dem Mikro- und Nanostrukturen durch Lithographie- und Ätztechniken gebildet werden. Es wird hauptsächlich in der Herstellung von LED -LED (leichte Diode) verwendet, um die Lichtextraktionseffizienz durch Oberflächenmusterdesign zu verbessern, wodurch die Helligkeit und Leistung von LED verbessert wird.


Produktdetail

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Kerncharakteristik

1. Materialmerkmale: Das Substratmaterial ist ein einzelner Kristallsaphir (al₂o₃) mit hoher Härte, hoher Wärmebeständigkeit und chemischer Stabilität.

2. Oberflächenstruktur: Die Oberfläche wird durch Photolithographie und Ätzen in periodische Mikro-Nano-Strukturen wie Zapfen, Pyramiden oder sechseckige Arrays gebildet.

3. OPTISCHE Leistung: Durch das Design der Oberflächenmuster wird die Gesamtreflexion von Licht an der Grenzfläche verringert und die Lichtextraktionseffizienz verbessert.

4. Thermische Leistung: Das Saphir -Substrat weist eine ausgezeichnete thermische Leitfähigkeit auf, die für leitende LED -Anwendungen geeignet ist.

5. Größenspezifikationen: Häufige Größen betragen 2 Zoll (50,8 mm), 4 Zoll (100 mm) und 6 Zoll (150 mm).

Hauptantragsbereiche

1. LED -Herstellung:
Verbesserte Lichtextraktionseffizienz: PSS reduziert den Lichtverlust durch das Strukturierungsdesign und verbessert die LED -Helligkeit und die leuchtende Effizienz erheblich.

Verbesserte epitaxiale Wachstumsqualität: Die gemusterte Struktur bietet eine bessere Wachstumsbasis für Gan -epitaxiale Schichten und verbessert die LED -Leistung.

2. Laserdiode (LD):
Hochleistungslaser: Die hohe thermische Leitfähigkeit und Stabilität von PSS eignet sich für Hochleistungslaserdioden und verbessert die Leistung und Zuverlässigkeit der Wärmeableitung.

Niedriger Schwellenwert: Optimieren Sie das Epitaxialwachstum, verringern Sie den Schwellenstrom der Laserdiode und verbessern Sie die Effizienz.

3. Fotodetektor:
Hohe Empfindlichkeit: Die hohe Lichtübertragung und die niedrige Defektdichte der PSS verbessern die Empfindlichkeit und Reaktionsgeschwindigkeit des Fotodetektors.

Breite spektrale Reaktion: Geeignet für den photoelektrischen Nachweis im ultravioletten bis sichtbaren Bereich.

4. Leistungselektronik:
Hochspannungswiderstand: Die hohe Isolierung und die thermische Stabilität des Saphirs sind für Hochspannungsstromgeräte geeignet.

Effiziente Wärmeableitung: Eine hohe thermische Leitfähigkeit verbessert die Leistung der Wärmeableitungen von Leistungsgeräten und verlängert die Lebensdauer.

5. RF -Geräte:
Hochfrequenzleistung: Der niedrige dielektrische Verlust und die hohe thermische Stabilität von PSS sind für hochfrequente HF -Geräte geeignet.

Niedriges Rauschen: hohe Flachheit und niedrige Defektdichte verringern das Gerätegeräusch und verbessert die Signalqualität.

6. Biosensoren:
Erkennung mit hoher Empfindlichkeit: Die hohe Lichtübertragung und die chemische Stabilität von PSS sind für Biosensoren mit hoher Empfindlichkeit geeignet.

Biokompatibilität: Die Biokompatibilität von Sapphire macht es für medizinische und biologische Anwendungen geeignet.
Strukturiertes Saphir -Substrat (PSS) mit GaN -Epitaxialmaterial:

Das strukturierte Saphir -Substrat (PSS) ist ein ideales Substrat für GaN (Gallium -Nitrid) epitaxiale Wachstum. Die Gitterkonstante des Saphirs liegt in der Nähe von GaN, was die Nichtübereinstimmung und Defekte des epitaxialen Wachstums von Gitter verringern kann. Die Mikro-Nano-Struktur der PSS-Oberfläche verbessert nicht nur die Lichtextraktionseffizienz, sondern verbessert auch die Kristallqualität der GaN-epitaxialen Schicht, wodurch die Leistung und Zuverlässigkeit der LED verbessert wird.

Technische Parameter

Artikel Strukturierter Saphir -Substrat (2 ~ 6 Zoll)
Durchmesser 50,8 ± 0,1 mm 100,0 ± 0,2 mm 150,0 ± 0,3 mm
Dicke 430 ± 25 μm 650 ± 25 μm 1000 ± 25 μm
Oberflächenorientierung C-Ebene (0001) außerhalb des Winkels in Richtung M-Achse (10-10) 0,2 ± 0,1 °
C-Ebene (0001) außerhalb des Winkels in Richtung A-Achse (11-20) 0 ± 0,1 °
Primäre flache Orientierung A-Ebene (11-20) ± 1,0 °
Primäre flache Länge 16,0 ± 1,0 mm 30,0 ± 1,0 mm 47,5 ± 2,0 mm
R-Ebene 9-o'clock
Vorderoberfläche Gemustert
Hinterfläche Oberfläche SSP: Fine-Ground, Ra = 0,8-1,2um; DSP: EPI-Polished, Ra <0,3 nm
Lasermarke Rückseite
Ttv ≤ 8 μm ≤ 10 μm ≤ 20 μm
BOGEN ≤ 10 μm ≤ 15 μm ≤25 μm
KETTE ≤ 12 μm ≤ 20 μm ≤ 30 μm
Randausschluss ≤ 2 mm
Musterspezifikation Formstruktur Kuppel, Kegel, Pyramide
Musterhöhe 1,6 ~ 1,8 μm
Musterdurchmesser 2,75 ~ 2,85 μm
Musterraum 0,1 ~ 0,3 μm

 XKH ist auf die Bereitstellung hochwertiger, maßgeschneiderter strukturierter Sapphire-Substrate (PSS) mit technischem Support- und After-Sales-Service spezialisiert, um Kunden dabei zu helfen, im Bereich LED-, Display- und Optoelektronik effiziente Innovationen zu erreichen.

1. PSS -Versorgung mit hoher Qualität: Strukturierte Saphir -Substrate in verschiedenen Größen (2 ", 4", 6 "), um den Anforderungen von LED-, Display- und optoelektronischen Geräten gerecht zu werden.

2. Customized Design: Passen Sie die Oberflächenmikro-Nano-Struktur (wie Kegel, Pyramide oder sechseckige Array) nach Bedarf an, um die Effizienz der Lichtextraktion zu optimieren.

3. Technischer Support: Bereitstellung von PSS -Anwendungsdesign, Prozessoptimierung und technischer Beratung, um Kunden dabei zu helfen, die Produktleistung zu verbessern.

4. Epitaxiale Wachstumsunterstützung: PSS mit GaN-Epitaxialmaterial entspricht, um eine qualitativ hochwertige epitaxiale Schichtwachstum zu gewährleisten.

5. Test und Zertifizierung: Bereitstellung von PSS -Qualitätsinspektionsbericht, um sicherzustellen, dass die Produkte die Branchenstandards entsprechen.

Detailliertes Diagramm

Mustered Saphirsubstrat (PSS) 4
Gemustertes Saphir -Substrat (PSS) 5
Strukturiertes Saphir -Substrat (PSS) 6

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