LiTaO3-Wafer 2 Zoll – 8 Zoll 10 x 10 x 0,5 mm 1sp 2sp für 5G/6G-Kommunikation

Kurze Beschreibung:

LiTaO3-Wafer (Lithiumtantalat-Wafer), ein zentrales Material in Halbleitern der dritten Generation und in der Optoelektronik, nutzen ihre hohe Curietemperatur (610 °C), ihren breiten Transparenzbereich (0,4–5,0 μm), ihren überlegenen piezoelektrischen Koeffizienten (d33 > 1.500 pC/N) und ihren geringen dielektrischen Verlust (tanδ < 2 %), um die 5G-Kommunikation, die photonische Integration und Quantengeräte zu revolutionieren. Unter Verwendung fortschrittlicher Fertigungstechnologien wie physikalischem Gasphasentransport (PVT) und chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) bietet XKH X/Y/Z-geschnittene, 42°-Y-geschnittene und periodisch gepolte (PPLT) Wafer in den Formaten 2–8 Zoll mit einer Oberflächenrauheit (Ra) <0,5 nm und einer Mikroröhrendichte <0,1 cm⁻². Unsere Dienstleistungen umfassen Fe-Dotierung, chemische Reduktion und heterogene Smart-Cut-Integration und richten sich an Hochleistungs-Optikfilter, Infrarotdetektoren und Quantenlichtquellen. Dieses Material ermöglicht Durchbrüche bei der Miniaturisierung, dem Hochfrequenzbetrieb und der thermischen Stabilität und beschleunigt den inländischen Ersatz bei kritischen Technologien.


  • :
  • Merkmale

    Technische Parameter

    Name Optisches LiTaO3 Schalltischpegel LiTaO3
    Axial Z-Schnitt +/- 0,2 ° 36° Y-Schnitt / 42° Y-Schnitt / X-Schnitt

    (+ / - 0,2 °)

    Durchmesser 76,2 mm + / - 0,3 mm/

    100 ± 0,2 mm

    76,2 mm +/- 0,3 mm

    100 mm +/- 0,3 mm oder 150 ± 0,5 mm

    Bezugsebene 22 mm +/- 2 mm 22 mm +/- 2 mm

    32 mm +/- 2 mm

    Dicke 500 um +/- 5 mm

    1000 µm +/- 5 mm

    500 um +/-20 mm

    350 um +/-20 mm

    TTV ≤ 10 µm ≤ 10 µm
    Curietemperatur 605 °C + / - 0,7 °C (DTA-Methode) 605 °C + / -3 °C (DTA-Methode
    Oberflächenqualität Doppelseitiges Polieren Doppelseitiges Polieren
    Abgeschrägte Kanten Kantenverrundung Kantenverrundung

     

    Hauptmerkmale

    1. Elektrische und optische Leistung
    · Elektrooptischer Koeffizient: r33 erreicht 30 pm/V (X-Schnitt), 1,5-mal höher als LiNbO3, und ermöglicht eine ultrabreitbandige elektrooptische Modulation (> 40 GHz Bandbreite).
    · Breite spektrale Empfindlichkeit: Übertragungsbereich 0,4–5,0 μm (8 mm Dicke), mit einer Ultraviolett-Absorptionskante von nur 280 nm, ideal für UV-Laser und Quantenpunktgeräte.
    · Niedriger pyroelektrischer Koeffizient: dP/dT = 3,5×10⁻⁴ C/(m²·K), gewährleistet Stabilität in Hochtemperatur-Infrarotsensoren.

    2.Thermische und mechanische Eigenschaften
    · Hohe Wärmeleitfähigkeit: 4,6 W/m·K (X-Schnitt), das Vierfache von Quarz, hält Temperaturzyklen von -200–500 °C stand.
    · Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: CTE = 4,1×10⁻⁶/K (25–1000 °C), kompatibel mit Siliziumgehäusen zur Minimierung der thermischen Belastung.
    3. Fehlerkontrolle und Verarbeitungspräzision
    · Mikrorohrdichte: <0,1 cm⁻² (8-Zoll-Wafer), Versetzungsdichte <500 cm⁻² (überprüft durch KOH-Ätzen).
    · Oberflächenqualität: CMP-poliert auf Ra <0,5 nm, erfüllt die Ebenheitsanforderungen der EUV-Lithografie.

    Wichtige Anwendungen

    Domain

    Anwendungsszenarien

    Technische Vorteile

    ​​Optische Kommunikation​​

    100G/400G DWDM-Laser, Silizium-Photonik-Hybridmodule

    Die breite spektrale Transmission und der geringe Wellenleiterverlust (α <0,1 dB/cm) des LiTaO3-Wafers ermöglichen eine C-Band-Erweiterung.

    ​​5G/6G-Kommunikation​​

    SAW-Filter (1,8–3,5 GHz), BAW-SMR-Filter

    42°Y-geschnittene Wafer erreichen einen Kt²-Wert von >15 % und bieten eine geringe Einfügungsdämpfung (<1,5 dB) und einen hohen Roll-off (>30 dB).

    Quantentechnologien

    Einzelphotonendetektoren, parametrische Down-Conversion-Quellen

    Ein hoher nichtlinearer Koeffizient (χ(2)=40 pm/V) und eine niedrige Dunkelzählrate (<100 Zählimpulse/s) verbessern die Quantentreue.

    ​​Industrielle Sensorik​​

    Hochtemperatur-Drucksensoren, Stromwandler

    Die piezoelektrische Reaktion (g33 >20 mV/m) und die hohe Temperaturtoleranz (>400 °C) des LiTaO3-Wafers eignen sich für extreme Umgebungen.

     

    XKH-Dienste

    1. Kundenspezifische Waferherstellung

    · Größe und Schnitt: 2–8-Zoll-Wafer mit X/Y/Z-Schnitt, 42°-Y-Schnitt und benutzerdefinierten Winkelschnitten (±0,01° Toleranz).

    · Dotierungskontrolle: Fe-, Mg-Dotierung mittels Czochralski-Methode (Konzentrationsbereich 10¹⁶–10¹⁹ cm⁻³) zur Optimierung der elektrooptischen Koeffizienten und der thermischen Stabilität.

    2. Fortschrittliche Prozesstechnologien
    ​​
    · Periodische Polung (PPLT): Smart-Cut-Technologie für LTOI-Wafer, die eine Domänenperiodenpräzision von ±10 nm und eine quasi-phasenangepasste (QPM) Frequenzumwandlung erreicht.

    · Heterogene Integration: Si-basierte LiTaO3-Verbundwafer (POI) mit Dickenkontrolle (300–600 nm) und Wärmeleitfähigkeit bis zu 8,78 W/m·K für Hochfrequenz-SAW-Filter.

    3.Qualitätsmanagementsysteme
    ​​
    · End-to-End-Tests: Raman-Spektroskopie (Polytyp-Verifizierung), XRD (Kristallinität), AFM (Oberflächenmorphologie) und Prüfung der optischen Gleichmäßigkeit (Δn <5×10⁻⁵).

    4. Globale Lieferkettenunterstützung
    ​​
    · Produktionskapazität: Monatliche Produktion >5.000 Wafer (8 Zoll: 70 %), mit 48-Stunden-Notfalllieferung.

    · Logistiknetzwerk: Abdeckung in Europa, Nordamerika und im asiatisch-pazifischen Raum per Luft-/Seefracht mit temperaturkontrollierter Verpackung.

    Laserholografische Fälschungsschutzausrüstung 2
    Laserholografische Fälschungsschutzausrüstung 3
    Laserholografische Fälschungsschutzausrüstung 5

  • Vorherige:
  • Nächste:

  • Schreiben Sie hier Ihre Nachricht und senden Sie sie an uns