Elektroden-Saphirsubstrat und Wafer-C-Plane-LED-Substrate

Kurzbeschreibung:

Aufgrund der kontinuierlichen Weiterentwicklung der Saphirtechnologie und der schnellen Expansion des Anwendungsmarktes werden 4-Zoll- und 6-Zoll-Substratwafer aufgrund ihrer inhärenten Vorteile bei der Produktionsauslastung stärker von etablierten Chipherstellern übernommen.


Produktdetails

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Spezifikation

ALLGEMEIN

Chemische Formel

Al2O3

Kristallstruktur

Sechseckiges System (hk o 1)

Einheitszellendimension

a=4,758 Å, Å c=12,991 Å, c:a=2,730

PHYSISCH

 

Metrisch

Englisch (Imperial)

Dichte

3,98 g/cm³

0,144 lb/in3

Härte

1525 - 2000 Knoop, 9 Monate

3700° F

Schmelzpunkt

2310 K (2040 °C)

 

STRUKTURELL

Zugfestigkeit

275 MPa bis 400 MPa

40.000 bis 58.000 psi

Zugfestigkeit bei 20° C

 

58.000 psi (Design min.)

Zugfestigkeit bei 500° C

 

40.000 psi (Auslegung min.)

Zugfestigkeit bei 1000° C

355 MPa

52.000 psi (Design min.)

Biegefestigkeit

480 MPa bis 895 MPa

70.000 bis 130.000 psi

Kompressionsstärke

2,0 GPa (ultimativ)

300.000 psi (ultimativ)

Saphir als Substrat für Halbleiterschaltungen

Dünne Saphirwafer waren die erste erfolgreiche Verwendung eines isolierenden Substrats, auf dem Silizium abgeschieden wurde, um integrierte Schaltkreise herzustellen, die als Silizium auf Saphir (SOS) bezeichnet werden. Zusätzlich zu seinen hervorragenden elektrischen Isolationseigenschaften verfügt Saphir über eine hohe Wärmeleitfähigkeit. CMOS-Chips auf Saphir eignen sich besonders für Hochfrequenzanwendungen (RF) mit hoher Leistung wie Mobiltelefone, Funkgeräte im öffentlichen Sicherheitsbereich und Satellitenkommunikationssysteme.

Einkristalline Saphirwafer werden in der Halbleiterindustrie auch als Substrate für die Züchtung von Geräten auf Galliumnitridbasis (GaN) verwendet. Die Verwendung von Saphir reduziert die Kosten erheblich, da es etwa ein Siebtel der Kosten von Germanium ausmacht. GaN auf Saphir wird üblicherweise in blauen Leuchtdioden (LEDs) verwendet.

Verwendung als Fenstermaterial

Synthetischer Saphir (manchmal auch als Saphirglas bezeichnet) wird oft als Fenstermaterial verwendet, da er zwischen 150 nm (Ultraviolett) und 5500 nm (Infrarot) Lichtwellenlängen hochtransparent ist (das sichtbare Spektrum reicht von etwa 380 nm bis 750 nm). und weist eine sehr hohe Kratzfestigkeit auf. Hauptvorteile von Saphirfenstern

Enthalten

Extrem große optische Übertragungsbandbreite, vom UV- bis zum Nahinfrarotlicht

Stärker als andere optische Materialien oder Glasfenster

Hohe Kratz- und Abriebfestigkeit (Mineralhärte 9 auf der Mohs-Skala, zweitgrößte natürliche Substanz nach Diamant und Moissanit)

Sehr hoher Schmelzpunkt (2030°C)

Detailliertes Diagramm

Elektroden-Saphir-Substrat und Wafer (1)
Elektroden-Saphir-Substrat und Wafer (2)

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