Elektroden-Saphirsubstrat und Wafer-C-Plane-LED-Substrate

Kurze Beschreibung:

Aufgrund der kontinuierlichen Weiterentwicklung der Saphirtechnologie und der schnellen Expansion des Anwendungsmarktes werden 4-Zoll- und 6-Zoll-Substratwafer aufgrund ihrer inhärenten Vorteile bei der Produktionsauslastung von den etablierten Chipherstellern zunehmend übernommen.


Produktdetail

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Spezifikation

ALLGEMEIN

Chemische Formel

Al2O3

Kristallstruktur

Hexagonales System (hk o 1)

Einheitszellendimension

a=4,758 Å, Å c=12,991 Å, c:a=2,730

PHYSIKALISCH

 

Metrisch

Englisch (Imperial)

Dichte

3,98 g/cm³

0,144 lb/in3

Härte

1525 - 2000 Knoop, 9 mhos

3700° F

Schmelzpunkt

2310 K (2040 °C)

 

STRUKTURELL

Zugfestigkeit

275 MPa bis 400 MPa

40.000 bis 58.000 psi

Zugfestigkeit bei 20° C

 

58.000 psi (Auslegungsmindestwert)

Zugfestigkeit bei 500° C

 

40.000 psi (mind. Auslegung)

Zugfestigkeit bei 1000° C

355 MPa

52.000 psi (Auslegungsmindestwert)

Biegefestigkeit

480 MPa bis 895 MPa

70.000 bis 130.000 psi

Druckfestigkeit

2,0 GPa (ultimativ)

300.000 psi (ultimativ)

Saphir als Halbleiter-Schaltungssubstrat

Dünne Saphir-Wafer waren die erste erfolgreiche Anwendung eines isolierenden Substrats, auf dem Silizium abgeschieden wurde, zur Herstellung integrierter Schaltkreise, genannt Silizium auf Saphir (SOS). Saphir verfügt neben seinen hervorragenden elektrischen Isoliereigenschaften auch über eine hohe Wärmeleitfähigkeit. CMOS-Chips auf Saphir eignen sich besonders für Hochleistungs-Hochfrequenzanwendungen (HF) wie Mobiltelefone, Funkgeräte für öffentliche Sicherheit und Satellitenkommunikationssysteme.

Einkristalline Saphir-Wafer werden in der Halbleiterindustrie auch als Substrate für die Herstellung von Galliumnitrid (GaN)-basierten Bauelementen verwendet. Die Verwendung von Saphir reduziert die Kosten deutlich, da es nur etwa ein Siebtel der Kosten von Germanium beträgt. GaN auf Saphir wird häufig in blauen Leuchtdioden (LEDs) verwendet.

Verwendung als Fenstermaterial

Synthetischer Saphir (manchmal auch als Saphirglas bezeichnet) wird häufig als Fenstermaterial verwendet, da er im Wellenlängenbereich von 150 nm (Ultraviolett) bis 5500 nm (Infrarot) hochtransparent ist (das sichtbare Spektrum reicht von etwa 380 nm bis 750 nm) und eine sehr hohe Kratzfestigkeit aufweist. Wichtige Vorteile von Saphirfenstern

Enthalten

Extrem breite optische Übertragungsbandbreite, vom UV- bis zum nahen Infrarotlicht

Stärker als andere optische Materialien oder Glasfenster

Hohe Kratz- und Abriebfestigkeit (Mineralhärte von 9 auf der Mohs-Skala, unter den natürlichen Substanzen nur von Diamant und Moissanit übertroffen)

Sehr hoher Schmelzpunkt (2030 °C)

Detailliertes Diagramm

Elektroden-Saphirsubstrat und -Wafer (1)
Elektroden-Saphirsubstrat und -Wafer (2)

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