8-Zoll-Siliziumwafer P/N-Typ (100) 1-100 Ω Dummy-Rückgewinnungssubstrat

Kurze Beschreibung:

Großer Bestand an doppelseitig polierten Wafern, alle Wafer mit einem Durchmesser von 50 bis 400 mm. Wenn Ihre Spezifikation nicht in unserem Bestand verfügbar ist, haben wir langfristige Beziehungen zu vielen Lieferanten aufgebaut, die in der Lage sind, Wafer nach Maß herzustellen, um jeder individuellen Spezifikation zu entsprechen.Doppelseitig polierte Wafer können für Silizium, Glas und andere in der Halbleiterindustrie üblicherweise verwendete Materialien verwendet werden.

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Produktdetail

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Einführung der Waffelbox

Der 8-Zoll-Siliziumwafer ist ein häufig verwendetes Siliziumsubstratmaterial und wird häufig im Herstellungsprozess integrierter Schaltkreise verwendet.Solche Siliziumwafer werden üblicherweise zur Herstellung verschiedener Arten integrierter Schaltkreise verwendet, darunter Mikroprozessoren, Speicherchips, Sensoren und andere elektronische Geräte.8-Zoll-Siliziumwafer werden üblicherweise zur Herstellung relativ großer Chips verwendet. Zu den Vorteilen gehören eine größere Oberfläche und die Möglichkeit, mehr Chips auf einem einzigen Siliziumwafer herzustellen, was zu einer höheren Produktionseffizienz führt.Der 8-Zoll-Siliziumwafer verfügt außerdem über gute mechanische und chemische Eigenschaften, was für die Produktion integrierter Schaltkreise im großen Maßstab geeignet ist.

Produktmerkmale

8" P/N-Typ, polierter Siliziumwafer (25 Stück)

Ausrichtung: 200

Spezifischer Widerstand: 0,1 - 40 Ohm·cm (kann von Charge zu Charge variieren)

Dicke: 725+/-20um

Prime/Monitor/Test-Note

MATERIALEIGENSCHAFTEN

Parameter	Charakteristisch
Typ/Dotierstoff	P, Bor N, Phosphor N, Antimon N, Arsen
Orientierungen	<100>, <111> schneiden Ausrichtungen gemäß Kundenspezifikation ab
Sauerstoffgehalt	10¹⁹ppmA Kundenspezifische Toleranzen gemäß Kundenspezifikation
Kohlenstoffgehalt	< 0,6 ppmA

MECHANISCHE EIGENSCHAFTEN

Parameter	Prime	Überwachen/Testen Sie A	Prüfen
Durchmesser	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,5 mm
Dicke	725 ± 20 µm (Standard)	725 ± 25 µm (Standard) 450 ± 25 µm 625 ± 25 µm 1000 ± 25 µm 1300 ± 25 µm 1500 ± 25 µm	725 ± 50 µm (Standard)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Bogen	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Wickeln	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Kantenverrundung	SEMI-STD
Markierung	Nur primär SEMI-Flat, SEMI-STD Flats Jeida Flat, Notch

Parameter	Prime	Überwachen/Testen Sie A	Prüfen
Kriterien für die Vorderseite
Zustand der Oberfläche	Chemisch mechanisch poliert	Chemisch mechanisch poliert	Chemisch mechanisch poliert
Oberflächenrauheit	< 2 A°	< 2 A°	< 2 A°
Kontamination Partikel@ >0,3 µm	= 20	= 20	= 30
Dunst, Gruben Orangenschale	Keiner	Keiner	Keiner
Säge, Markierungen Streifen	Keiner	Keiner	Keiner
Rückseitenkriterien
Risse, Krähenfüße, Sägespuren, Flecken	Keiner	Keiner	Keiner
Zustand der Oberfläche	Ätzend geätzt