8-Zoll-Siliziumwafer P/N-Typ (100) 1-100Ω Dummy-Rückgewinnungssubstrat
Einführung der Waferbox
8-Zoll-Siliziumwafer sind ein gängiges Siliziumsubstratmaterial und werden häufig in der Herstellung integrierter Schaltungen eingesetzt. Sie dienen zur Fertigung verschiedenster integrierter Schaltungen, darunter Mikroprozessoren, Speicherchips, Sensoren und andere elektronische Bauelemente. 8-Zoll-Siliziumwafer eignen sich besonders für die Herstellung relativ großer Chips. Zu ihren Vorteilen zählen die größere Oberfläche und die Möglichkeit, mehr Chips auf einem einzigen Wafer zu fertigen, was die Produktionseffizienz steigert. Darüber hinaus weisen 8-Zoll-Siliziumwafer gute mechanische und chemische Eigenschaften auf und sind daher für die Herstellung großflächiger integrierter Schaltungen geeignet.
Produktmerkmale
8" P/N-Typ, polierter Siliziumwafer (25 Stück)
Orientierung: 200
Spezifischer Widerstand: 0,1 - 40 Ohm•cm (Kann von Charge zu Charge variieren)
Dicke: 725 ± 20 µm
Prime/Monitor/Test Grade
MATERIALEIGENSCHAFTEN
| Parameter | Merkmal |
| Typ/Dopant | P, Bor N, Phosphor N, Antimon N, Arsen |
| Orientierungen | <100>, <111> Schnittrichtungen gemäß Kundenspezifikation |
| Sauerstoffgehalt | 1019ppmA Kundenspezifische Toleranzen gemäß Kundenspezifikation |
| Kohlenstoffgehalt | < 0,6 ppmA |
MECHANISCHE EIGENSCHAFTEN
| Parameter | Prime | Monitor/Test A | Prüfen |
| Durchmesser | 200±0,2 mm | 200 ± 0,2 mm | 200 ± 0,5 mm |
| Dicke | 725±20µm (Standard) | 725±25µm (Standard) 450±25µm 625±25µm 1000±25µm 1300±25µm 1500±25 µm | 725±50µm (Standard) |
| TTV | < 5 µm | < 10 µm | < 15 µm |
| Bogen | < 30 µm | < 30 µm | < 50 µm |
| Wickeln | < 30 µm | < 30 µm | < 50 µm |
| Kantenverrundung | SEMI-STD | ||
| Markierung | Primäre halbflache Ausführung, halbstandardmäßige flache Ausführung, Jeida-Flache, Kerbe | ||
| Parameter | Prime | Monitor/Test A | Prüfen |
| Kriterien für die Vorderseite | |||
| Oberflächenbeschaffenheit | Chemisch Mechanisch Poliert | Chemisch Mechanisch Poliert | Chemisch Mechanisch Poliert |
| Oberflächenrauheit | < 2 A° | < 2 A° | < 2 A° |
| Kontamination Partikel >0,3 µm | = 20 | = 20 | = 30 |
| Dunst, Gruben Orangenschale | Keiner | Keiner | Keiner |
| Säge, Spuren Streifen | Keiner | Keiner | Keiner |
| Kriterien für die Rückseite | |||
| Risse, Krähenfüße, Sägespuren, Flecken | Keiner | Keiner | Keiner |
| Oberflächenbeschaffenheit | Ätzend | ||
Detailliertes Diagramm





