Siliziumkarbid (SiC) Keramikplatte

Kurzbeschreibung:

Siliziumkarbid (SiC)-Keramikplatten sind hochfeste, hochreine Hochleistungskeramikbauteile, die für Umgebungen mit hohen Anforderungen an thermische Stabilität, mechanische Belastbarkeit und chemische Beständigkeit entwickelt wurden. Dank ihrer hervorragenden Härte, geringen Dichte und überlegenen Wärmeleitfähigkeit finden SiC-Platten breite Anwendung in der Halbleiterverarbeitung, in Hochtemperaturöfen, im Präzisionsmaschinenbau und in korrosiven Industrieumgebungen.

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Merkmale

Detailliertes Diagramm

Produktübersicht

Diese Platten behalten ihre strukturelle Integrität auch unter extremen Bedingungen und sind somit eine ideale Materiallösung für Hochleistungsgeräte der nächsten Generation.

Hauptmerkmale und Eigenschaften

Hohe Härte und Verschleißfestigkeit– Vergleichbar mit Diamanten, gewährleistet eine lange Lebensdauer.
Geringe Wärmeausdehnung– Minimiert Verformungen bei schneller Erwärmung oder Abkühlung.
Hohe Wärmeleitfähigkeit– Effiziente Wärmeableitung für thermische Regelsysteme.
Hervorragende chemische Stabilität– Beständig gegen Säuren, Laugen und Plasmaumgebungen.
Leicht und dennoch extrem robust– Hohes Festigkeits-Gewichts-Verhältnis im Vergleich zu Metallen.
Hervorragende Hochtemperaturleistung– Betriebstemperaturen bis zu 1600°C (je nach Güteklasse).
Hohe mechanische Steifigkeit– Ideal für präzise Unterstützung und strukturelle Stabilität.

Herstellungsverfahren

SiC-Keramikplatten werden typischerweise durch eines der folgenden Verfahren hergestellt:

• Reaktionsgebundenes Siliciumcarbid (RBSC / RBSiC)

Entstanden durch Infiltrieren von geschmolzenem Silizium in eine poröse SiC-Vorform.
Es zeichnet sich durch hohe Festigkeit, gute Bearbeitbarkeit und Dimensionsstabilität aus.
Geeignet für große Platten, die eine präzise Planheitskontrolle erfordern.

• Gesintertes Siliciumcarbid (SSiC)

Hergestellt durch druckloses Sintern von hochreinem SiC-Pulver
Bietet überlegene Reinheit, Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit
Ideal für Halbleiter- und Chemieanwendungen, die ultrareine Bedingungen erfordern.

• CVD-Siliciumcarbid (CVD-SiC)

Chemische Gasphasenabscheidung
Höchste Reinheit, extrem dicht und ultra-glatte Oberfläche
Häufig verwendet in Halbleiterwaferträgern, Suszeptoren und Vakuumkammerteilen

Anwendungen

SiC-Keramikplatten finden in zahlreichen Branchen breite Anwendung:

Halbleiter & Elektronik

Wafer-Trägerplatten
Suszeptoren
Komponenten eines Diffusionsofens
Teile der Ätz- und Beschichtungskammer

Hochtemperatur-Ofenkomponenten

Stützplatten
Ofenmöbel
Isolierung und Schutz von Heizsystemen

Industrieanlagen

Mechanische Verschleißplatten
Gleitpads
Pumpen- und Ventilkomponenten
Chemisch korrosionsbeständige Platten

Luft- und Raumfahrt & Verteidigung

Leichte, hochfeste Strukturplatten
Hochtemperatur-Abschirmungskomponenten

Spezifikationen & Anpassung

SiC-Keramikplatten können nach kundenspezifischen Zeichnungen gefertigt werden:

• Abmessungen:
Dicke: 0,5–30 mm
Maximale Seitenlänge: bis zu 600 mm (variiert je nach Verfahren)

• Toleranz:
±0,01–0,05 mm abhängig vom Bearbeitungsgrad

• Oberflächenbeschaffenheit:

Geschliffen / überlappt
Poliert (Ra < 5 nm für CVD-SiC)
gesinterte Oberfläche

• Materialgüten:
RBSiC / SSiC / CVD-SiC

• Formoptionen:
Flache Platten, quadratische Platten, runde Platten, geschlitzte Platten, perforierte Platten usw.

Häufig gestellte Fragen zu Quarzgläsern

Frage 1: Worin besteht der Unterschied zwischen RBSiC- und SSiC-Platten?

A:RBSiC bietet eine gute mechanische Festigkeit und ein gutes Preis-Leistungs-Verhältnis, während SSiC eine höhere Reinheit, bessere Korrosionsbeständigkeit und höhere Festigkeit aufweist. SSiC wird daher bevorzugt für Anwendungen in der Halbleiter- und Chemieindustrie eingesetzt.

Frage 2: Sind SiC-Keramikplatten temperaturbeständig?

A:Ja. SiC zeichnet sich durch eine geringe Wärmeausdehnung und eine hohe Wärmeleitfähigkeit aus, was eine ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit gewährleistet.

Frage 3: Können die Platten für Anwendungen mit spiegelglatter Oberfläche poliert werden?

A:Ja. Mit CVD-SiC und hochreinem SSiC lässt sich eine spiegelglatte Politur für optische oder Halbleiteranwendungen erzielen.

Frage 4: Bieten Sie kundenspezifische Bearbeitung an?

A:Ja. Platten können nach Ihren Zeichnungen gefertigt werden, einschließlich Löchern, Schlitzen, Aussparungen und Sonderformen.

Über uns

XKH ist spezialisiert auf die Entwicklung, Produktion und den Vertrieb von Spezialglas und neuen Kristallmaterialien. Unsere Produkte finden Anwendung in der Optoelektronik, der Unterhaltungselektronik und im Militärbereich. Wir bieten optische Saphirkomponenten, Objektivabdeckungen für Mobiltelefone, Keramik, LT, Siliziumkarbid (SiC), Quarz und Halbleiterkristallwafer an. Dank unserer Expertise und modernster Ausrüstung zeichnen wir uns durch die Fertigung von Sonderanfertigungen aus und streben die Position eines führenden Hightech-Unternehmens für optoelektronische Materialien an.