Siliziumkarbid-Auslegerpaddel (SiC-Auslegerpaddel)
Detailliertes Diagramm
Produktübersicht
Der aus hochleistungsfähigem reaktionsgebundenem Siliziumkarbid (RBSiC) hergestellte Siliziumkarbid-Ausleger ist eine wichtige Komponente, die in Wafer-Belade- und Handhabungssystemen für Halbleiter- und Photovoltaikanwendungen eingesetzt wird.
Im Vergleich zu herkömmlichen Quarz- oder Graphitpaddeln bieten SiC-Cantileverpaddel überlegene mechanische Festigkeit, hohe Härte, geringe Wärmeausdehnung und hervorragende Korrosionsbeständigkeit. Sie behalten auch bei hohen Temperaturen eine ausgezeichnete Strukturstabilität und erfüllen die strengen Anforderungen an große Wafergrößen, lange Lebensdauer und extrem geringe Kontamination.
Mit der kontinuierlichen Weiterentwicklung von Halbleiterprozessen hin zu größeren Waferdurchmessern, höherem Durchsatz und saubereren Verarbeitungsumgebungen haben SiC-Cantilever-Paddel nach und nach herkömmliche Materialien ersetzt und sind zur bevorzugten Wahl für Diffusionsöfen, LPCVD und verwandte Hochtemperaturanlagen geworden.
Produktmerkmale
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Ausgezeichnete Hochtemperaturstabilität
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Funktioniert zuverlässig bei 1000–1300℃ ohne Verformung.
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Maximale Betriebstemperatur bis zu 1380℃.
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Hohe Tragfähigkeit
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Biegefestigkeit bis zu 250–280 MPa, viel höher als bei Quarzpaddeln.
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Geeignet für die Bearbeitung von Wafern mit großem Durchmesser (300 mm und größer).
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Lange Lebensdauer und geringer Wartungsaufwand
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Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient (4,5 × 10⁻⁶ K⁻¹), gut abgestimmt auf LPCVD-Beschichtungsmaterialien.
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Verringert spannungsbedingte Risse und Abplatzungen und verlängert so die Reinigungs- und Wartungszyklen erheblich.
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Korrosionsbeständigkeit und Reinheit
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Ausgezeichnete Beständigkeit gegenüber Säuren und Laugen.
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Dichte Mikrostruktur mit offener Porosität <0,1 %, wodurch die Partikelbildung und die Freisetzung von Verunreinigungen minimiert werden.
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Automatisierungskompatibles Design
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Stabile Querschnittsgeometrie mit hoher Maßgenauigkeit.
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Lässt sich nahtlos in robotergestützte Wafer-Be- und Entladesysteme integrieren und ermöglicht so eine vollautomatisierte Produktion.
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Physikalische und chemische Eigenschaften
| Artikel | Einheit | Daten |
|---|---|---|
| Maximale Betriebstemperatur | ℃ | 1380 |
| Dichte | g/cm³ | 3.04 – 3.08 |
| Offene Porosität | % | < 0,1 |
| Biegefestigkeit | MPa | 250 (20℃), 280 (1200℃) |
| Elastizitätsmodul | GPa | 330 (20℃), 300 (1200℃) |
| Wärmeleitfähigkeit | W/m·K | 45 (1200℃) |
| Wärmeausdehnungskoeffizient | K⁻¹×10⁻⁶ | 4,5 |
| Vickers-Härte | HV2 | ≥ 2100 |
| Säure-/Alkalibeständigkeit | - | Exzellent |
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Standardlängen:2378 mm, 2550 mm, 2660 mm
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Sonderabmessungen auf Anfrage erhältlich.
Anwendungen
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Halbleiterindustrie
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LPCVD (Niederdruck-Cycle-Vapor-Deposition)
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Diffusionsprozesse (Phosphor, Bor usw.)
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Thermische Oxidation
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Photovoltaikindustrie
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Diffusion und Beschichtung von Polysilizium- und monokristallinen Wafern
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Hochtemperaturglühen und Passivierung
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Andere Bereiche
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Hochtemperatur-korrosive Umgebungen
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Präzisions-Waferhandhabungssysteme, die eine lange Lebensdauer und geringe Kontamination erfordern.
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Kundenvorteile
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Reduzierte Betriebskosten– Längere Lebensdauer im Vergleich zu Quarzpaddeln, wodurch Ausfallzeiten und Austauschhäufigkeit minimiert werden.
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Höherer Ertrag– Extrem geringe Kontamination gewährleistet die Sauberkeit der Waferoberfläche und reduziert die Fehlerraten.
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Zukunftssicher– Kompatibel mit großen Wafergrößen und Halbleiterprozessen der nächsten Generation.
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Verbesserte Produktivität– Vollständig kompatibel mit Roboterautomatisierungssystemen und unterstützt die Fertigung großer Stückzahlen.
Häufig gestellte Fragen – Siliziumkarbid-Auslegerpaddel
Frage 1: Was ist ein Siliziumkarbid-Auslegerpaddel?
A: Es handelt sich um eine Waferhalterung und ein Handhabungselement aus reaktionsgebundenem Siliciumcarbid (RBSiC). Es findet breite Anwendung in Diffusionsöfen, LPCVD und anderen Hochtemperaturprozessen in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie.
Frage 2: Warum SiC-Paddel gegenüber Quarz-Paddeln wählen?
A: Im Vergleich zu Quarzpaddeln bieten SiC-Paddel folgende Vorteile:
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Höhere mechanische Festigkeit und Tragfähigkeit
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Bessere thermische Stabilität bei Temperaturen bis zu 1380℃
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Deutlich längere Lebensdauer und reduzierte Wartungszyklen
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Geringeres Partikelbildungs- und Kontaminationsrisiko
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Kompatibilität mit größeren Wafergrößen (300 mm und größer)
Frage 3: Welche Wafergrößen kann der SiC-Auslegerpaddel tragen?
A: Standard-Paddel sind für Ofensysteme mit 2378 mm, 2550 mm und 2660 mm Durchmesser erhältlich. Kundenspezifische Abmessungen für Wafer bis zu 300 mm und darüber hinaus sind verfügbar.
Über uns
XKH ist spezialisiert auf die Entwicklung, Produktion und den Vertrieb von Spezialglas und neuen Kristallmaterialien. Unsere Produkte finden Anwendung in der Optoelektronik, der Unterhaltungselektronik und im Militärbereich. Wir bieten optische Saphirkomponenten, Objektivabdeckungen für Mobiltelefone, Keramik, LT, Siliziumkarbid (SiC), Quarz und Halbleiterkristallwafer an. Dank unserer Expertise und modernster Ausrüstung zeichnen wir uns durch die Fertigung von Sonderanfertigungen aus und streben die Position eines führenden Hightech-Unternehmens für optoelektronische Materialien an.
