SiC-Keramikschale für Waferträger mit hoher Temperaturbeständigkeit

Kurze Beschreibung:

Siliziumkarbid-Keramikträger (SiC) werden aus ultrahochreinem SiC-Pulver (>99,1 %) hergestellt und bei 2450 °C gesintert. Sie weisen eine Dichte von 3,10 g/cm³, eine hohe Temperaturbeständigkeit bis 1800 °C und eine Wärmeleitfähigkeit von 250–300 W/m·K auf. Sie eignen sich hervorragend für Halbleiter-MOCVD- und ICP-Ätzprozesse als Waferträger. Ihre geringe Wärmeausdehnung (4×10⁻⁶/K) sorgt für Stabilität bei hohen Temperaturen und eliminiert das Kontaminationsrisiko herkömmlicher Graphitträger. Standarddurchmesser erreichen 600 mm, optional mit Vakuumabsaugung und kundenspezifischen Nuten. Die Präzisionsbearbeitung gewährleistet Ebenheitsabweichungen <0,01 mm, was die Gleichmäßigkeit der GaN-Schicht und die LED-Chip-Ausbeute verbessert.


Merkmale

​​Siliziumkarbid-Keramikschale (SiC-Schale)​​

Eine Hochleistungskeramikkomponente auf Basis von Siliziumkarbid (SiC), entwickelt für anspruchsvolle Industrieanwendungen wie die Halbleiter- und LED-Herstellung. Zu ihren Hauptfunktionen zählen die Funktion als Waferträger, Ätzprozessplattform und Hochtemperaturprozessunterstützung. Dank ihrer außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeit, Hochtemperaturbeständigkeit und chemischen Stabilität gewährleistet sie Prozessgleichmäßigkeit und Produktausbeute.

Hauptmerkmale

1. Thermische Leistung

  • ​​Hohe Wärmeleitfähigkeit​​: 140–300 W/m·K, übertrifft herkömmlichen Graphit (85 W/m·K) deutlich und ermöglicht eine schnelle Wärmeableitung und reduzierte thermische Belastung.
  • ​​Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: 4,0×10⁻⁶/℃ (25–1000℃), ähnlich wie Silizium (2,6×10⁻⁶/℃), wodurch das Risiko einer thermischen Verformung minimiert wird.

2. ​​Mechanische Eigenschaften​​

  • ​​Hohe Festigkeit: Biegefestigkeit ≥320 MPa (20 °C), druck- und stoßfest.
  • ​​Hohe Härte​​: Mohshärte 9,5, nur Diamanten sind besser, und bietet überlegene Verschleißfestigkeit.

3. Chemische Stabilität

  • ​​Korrosionsbeständigkeit​​: Beständig gegen starke Säuren (z. B. HF, H₂SO₄), geeignet für Ätzprozessumgebungen.
  • ​​Nicht magnetisch​​: Intrinsische magnetische Suszeptibilität <1×10⁻⁶ emu/g, wodurch Interferenzen mit Präzisionsinstrumenten vermieden werden.

4. Extreme Umweltverträglichkeit

  • ​​Hochtemperaturbeständigkeit: Langfristige Betriebstemperatur bis zu 1600–1900 °C; kurzfristige Beständigkeit bis zu 2200 °C (sauerstofffreie Umgebung).
  • ​​Thermoschockbeständigkeit​​: Hält abrupten Temperaturänderungen (ΔT >1000℃) stand, ohne zu reißen.

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Anwendungen

​​Anwendungsfeld​​

​​Spezifische Szenarien​​

​​Technischer Wert​​

​​Halbleiterfertigung​​

Waferätzen (ICP), Dünnschichtabscheidung (MOCVD), CMP-Politur

Eine hohe Wärmeleitfähigkeit gewährleistet gleichmäßige Temperaturfelder; eine geringe Wärmeausdehnung minimiert die Waferverformung.

​​LED-Produktion​​

Epitaktisches Wachstum (z. B. GaN), Wafer-Dicing, Packaging

Unterdrückt Defekte unterschiedlicher Art und verbessert so die Lichtausbeute und Lebensdauer der LED.

​​Photovoltaikindustrie​​

Silizium-Wafer-Sinteröfen, PECVD-Geräteunterstützung

Hohe Temperaturbeständigkeit und Thermoschockbeständigkeit verlängern die Lebensdauer der Geräte.

​​Laser & Optik​​

Hochleistungslaser-Kühlsubstrate, optische Systemträger

Eine hohe Wärmeleitfähigkeit ermöglicht eine schnelle Wärmeableitung und stabilisiert optische Komponenten.

​​Analytische Instrumente​​

TGA/DSC-Probenhalter

Geringe Wärmekapazität und schnelle thermische Reaktion verbessern die Messgenauigkeit.

Produktvorteile​​

  1. Umfassende Leistung: Wärmeleitfähigkeit, Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit übertreffen die von Aluminiumoxid- und Siliziumnitridkeramik bei weitem und erfüllen extreme Betriebsanforderungen.
  2. ​​Leichtbauweise​​: Dichte von 3,1–3,2 g/cm³ (40 % von Stahl), wodurch die Trägheitslast reduziert und die Bewegungspräzision verbessert wird.
  3. ​​Langlebigkeit und Zuverlässigkeit​​: Die Lebensdauer beträgt mehr als 5 Jahre bei 1600 °C, wodurch Ausfallzeiten reduziert und die Betriebskosten um 30 % gesenkt werden.
  4. ​​Anpassung​​: Unterstützt komplexe Geometrien (z. B. poröse Saugnäpfe, mehrschichtige Schalen) mit einem Ebenheitsfehler <15 μm für Präzisionsanwendungen.

Technische Spezifikationen

​​Parameterkategorie​​

​​Indikator​​

​​Physikalische Eigenschaften​​

Dichte

≥3,10 g/cm³

Biegefestigkeit (20 °C)

320–410 MPa

Wärmeleitfähigkeit (20℃)

140–300 W/(m·K)

Wärmeausdehnungskoeffizient (25–1000℃)

4,0×10⁻⁶/℃

​​Chemische Eigenschaften​​

Säurebeständigkeit (HF/H₂SO₄)

Keine Korrosion nach 24 Stunden Eintauchen

Bearbeitungspräzision

Ebenheit

≤15 μm (300×300 mm)

Oberflächenrauheit (Ra)

≤0,4 μm

XKHs Dienstleistungen

XKH bietet umfassende Industrielösungen von kundenspezifischer Entwicklung über Präzisionsbearbeitung bis hin zu strenger Qualitätskontrolle. Für die kundenspezifische Entwicklung bietet das Unternehmen hochreine (>99,999 %) und poröse (30–50 % Porosität) Materiallösungen, gepaart mit 3D-Modellierung und Simulation, um komplexe Geometrien für Anwendungen wie Halbleiter und Luft- und Raumfahrt zu optimieren. Die Präzisionsbearbeitung folgt einem optimierten Prozess: Pulververarbeitung → isostatisches/Trockenpressen → Sintern bei 2200 °C → CNC-/Diamantschleifen → Prüfung, um eine Politur im Nanometerbereich und eine Maßtoleranz von ±0,01 mm zu gewährleisten. Die Qualitätskontrolle umfasst vollständige Prozesstests (XRD-Zusammensetzung, SEM-Mikrostruktur, 3-Punkt-Biegung) und technischen Support (Prozessoptimierung, Beratung rund um die Uhr, Musterlieferung innerhalb von 48 Stunden) und liefert zuverlässige, leistungsstarke Komponenten für anspruchsvolle Industrieanforderungen.

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Häufig gestellte Fragen (FAQ)

 1. F: Welche Branchen verwenden Keramikschalen aus Siliziumkarbid?​​

A: Aufgrund ihrer extremen Hitzebeständigkeit und chemischen Stabilität werden sie häufig in der Halbleiterherstellung (Waferhandhabung), Solarenergie (PECVD-Prozesse), medizinischen Geräten (MRT-Komponenten) und der Luft- und Raumfahrt (Hochtemperaturteile) eingesetzt.

2. F: Inwiefern übertrifft Siliziumkarbid Quarz-/Glasschalen?​​

A: Höhere Temperaturwechselbeständigkeit (bis zu 1800 °C im Vergleich zu 1100 °C bei Quarz), keine magnetischen Störungen und längere Lebensdauer (5+ Jahre im Vergleich zu 6–12 Monaten bei Quarz).

3. F: Können Siliziumkarbidschalen mit sauren Umgebungen umgehen?​​

A: Ja. Beständig gegen HF, H2SO4 und NaOH mit <0,01 mm Korrosion/Jahr, wodurch sie sich ideal für chemisches Ätzen und Waferreinigung eignen.

4. F: Sind Siliziumkarbid-Tabletts mit der Automatisierung kompatibel?​​

A: Ja. Entwickelt für die Vakuumaufnahme und Roboterhandhabung, mit einer Oberflächenebenheit von <0,01 mm, um eine Partikelkontamination in automatisierten Fabriken zu verhindern.

5. F: Wie ist der Kostenvergleich mit herkömmlichen Materialien?​​

A: Höhere Anschaffungskosten (3-5x Quarz), aber 30-50 % niedrigere Gesamtbetriebskosten aufgrund der längeren Lebensdauer, der geringeren Ausfallzeiten und der Energieeinsparungen durch die bessere Wärmeleitfähigkeit.


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