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Ausgewählte Produkte

  • 8 Zoll 200 mm 4H-N SiC-Wafer, leitfähiger Dummy, Forschungsqualität
    8 Zoll 200 mm 4H-N SiC-Wafer-Leiter
  • 150 mm 6 Zoll 0,7 mm 0,5 mm Saphir-Wafer-Substratträger C-Plane SSP/DSP
    150 mm 6 Zoll 0,7 mm 0,5 mm Saphir...
  • 4 Zoll Saphir-Wafer C-Plane SSP/DSP 0,43 mm 0,65 mm
    4 Zoll Saphir-Wafer C-Plane SS...
  • Saphirfenster Saphirglaslinse Einkristall Al2O3-Material
    Saphirfenster Saphirglas l...
  • Durchmesser 50,8 mm, Saphir-Wafer, Saphir-Fenster, hohe optische Transmission, DSP/SSP
    Durchmesser 50,8 mm, Saphir-Wafer, Saphir...
  • 50,8 mm/100 mm AlN-Vorlage auf NPSS/FSS AlN-Vorlage auf Saphir
    50,8 mm/100 mm AlN-Vorlage auf NPS ...

Halbleiterausrüstung

  • SiC-Kristallwachstumsofen SiC-Ingot-Züchtung 4 Zoll 6 Zoll 8 Zoll PTV Lely TSSG LPE-Züchtungsmethode

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  • Kleine Tischlaserstanzmaschine 1000 W – 6000 W, Mindestöffnung 0,1 mm, kann für Metallglaskeramikmaterialien verwendet werden

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  • Hochpräzise Laserbohrmaschine zum Bohren von Edelsteinlagerdüsen aus Saphirkeramikmaterial

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  • Saphir-Einkristall Al2O3-Züchtungsofen KY-Methode Kyropoulos-Herstellung von hochwertigem Saphirkristall

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  • Ofen für monokristallines Siliziumwachstum, System zur monokristallinen Silizium-Ingot-Züchtung, Gerätetemperatur bis zu 2100 °C

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  • Saphirkristall-Züchtungsofen Czochralski-Einkristallofen CZ-Methode zum Züchten hochwertiger Saphir-Wafer

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NACHRICHT

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  • Erste Generation Zweite Generation Dritte Generation Halbleitermaterialien
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