Quarzglas-Wafer JGS1 JGS2 BF33 Wafer 8 Zoll 12 Zoll 725 ± 25 um oder besonders angefertigt

Quarzglas-Wafer JGS1 JGS2 BF33 Wafer 8 Zoll 12 Zoll 725 ± 25 um oder kundenspezifisches vorgestelltes Bild

Kurze Beschreibung:

Dieses Produkt bietet hochwertige Quarzglas-Wafer in drei verschiedenen Materialien: JGS1, JGS2 und BF33. Erhältlich in den Standardgrößen 8 Zoll und 12 Zoll mit einer Dicke von 725 ± 25 μm, können diese Wafer auch individuell an Ihre Anforderungen angepasst werden. Die Quarz-Wafer zeichnen sich durch hervorragende thermische Stabilität, chemische Beständigkeit und hohe Transmission aus und eignen sich daher ideal für eine Vielzahl von Anwendungen wie die Halbleiterfertigung, Optik und Photonik. Dank präziser Maßkontrolle und außergewöhnlicher Oberflächenqualität erfüllen diese Wafer die hohen Standards moderner Industrien und bieten zuverlässige Leistung und Langlebigkeit in Forschungs- und Produktionsumgebungen. Anpassungsoptionen gewährleisten Flexibilität für unterschiedliche Projektanforderungen.

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Produktdetail

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Spezifikation

Spezifikation	4"	6"	8"	10"	12 Zoll
Durchmesser	100 mm	150 mm	200 mm	250 mm	300 mm
Dicke	0,10 mm	0,30 mm	0,40 mm	0,50 mm	0,50 mm
Primärwohnung	32,5 mm	47,5 mm / 57,5 mm / Kerbe	Kerbe	Kerbe	Kerbe
LTV (5 mm x 5 mm)	< 0,5 µm	< 0,5 µm	< 0,5 µm	< 0,5 µm	< 0,5 µm
TTV	< 2 µm	< 3 µm	<3 µm	<10 µm	<10 µm
Bogen	±20µm	±30µm	±40µm	±40µm	±40µm
Kette	≤ 30 µm	≤ 40µm	≤ 70 µm	≤ 80 µm	≤ 80 µm
Kantenverrundung	Entspricht dem SEMI M1.2-Standard/siehe IEC62276
Oberflächentyp	Einseitig poliert / Doppelseitig poliert
Polierte Seite Ra	Ra≤1nm
Kriterien für die Rückseite	Ra 0,2–0,7 µm oder kundenspezifisch

Quarzglas-Wafer JGS1 JGS2 BF33 Wafer-Parametertabelle

Anwendung

Quarzglaswafer aus JGS1, JGS2 und BF33 finden breite Anwendung in verschiedenen Hochpräzisionsindustrien. Diese Wafer eignen sich ideal für die Halbleiterherstellung, einschließlich Fotomaskensubstraten und Wafer-Level-Optik. Sie eignen sich auch für optische Komponenten, Laser und Sensoren in Branchen wie Telekommunikation, Luft- und Raumfahrt und Medizintechnik. Ihre hohe thermische Stabilität und Temperaturwechselbeständigkeit machen sie ideal für Umgebungen mit extremen Temperaturen, während ihre außergewöhnliche Transmission für die Ultraviolett- (UV) und Infrarot- (IR) Optik entscheidend ist.

Eigenschaften

Materialarten:

JGS1: Hohe UV-Durchlässigkeit, hervorragend für Anwendungen mit ultraviolettem Licht.

JGS2: Ausgewogene Durchlässigkeit im UV-, sichtbaren und Infrarotbereich, geeignet für allgemeine optische Anwendungen.

BF33: Borosilikatglas mit hoher chemischer Beständigkeit und thermischer Belastbarkeit. Größenoptionen:

Erhältlich in den Standardgrößen 8-Zoll- und 12-Zoll-Wafer.

Sondergrößen können je nach Bedarf hergestellt werden.Dicke:

Die Standarddicke beträgt 725 ± 25 μm.

Anpassbare Dicke verfügbar, um unterschiedlichen industriellen Anforderungen gerecht zu werden.

Thermische Eigenschaften:

Hervorragende thermische Stabilität, geeignet für den Einsatz in Umgebungen mit hohen Temperaturen.

Hohe Beständigkeit gegen Thermoschock.

Chemische Beständigkeit:

Hohe Korrosionsbeständigkeit gegenüber Säuren, Laugen und den meisten Chemikalien, insbesondere in BF33.

Optische Eigenschaften:

JGS1- und JGS2-Wafer bieten eine hohe optische Durchlässigkeit im ultravioletten (UV), sichtbaren und infraroten (IR) Bereich.

Ideal für optische Präzisionskomponenten, Photonik und Laseranwendungen.

Oberflächenqualität:

Hohe Ebenheit und Glätte der Oberfläche gewährleisten Präzision bei der Herstellung von Halbleitern und optischen Geräten.

Diese Eigenschaften machen JGS1-, JGS2- und BF33-Wafer vielseitig und zuverlässig für Hochleistungsanwendungen in Branchen wie Optik, Elektronik und Halbleiter.

Gesamt

Quarzglas-Wafer aus JGS1, JGS2 und BF33 bieten außergewöhnliche Leistung für eine Vielzahl anspruchsvoller Anwendungen. Erhältlich in den Standardgrößen 8 Zoll und 12 Zoll mit einer Dicke von 725 ± 25 μm, können diese Wafer auch an spezifische Anforderungen angepasst werden. JGS1 und JGS2 bieten eine hohe optische Transmission im UV-, sichtbaren und IR-Bereich, während BF33 eine ausgezeichnete chemische Beständigkeit und thermische Stabilität bietet. Dank ihrer hohen Oberflächenebenheit und -glätte eignen sich diese Wafer ideal für Präzisionsindustrien wie Halbleiter, Optik und Photonik und gewährleisten Zuverlässigkeit und Langlebigkeit in extremen Umgebungen und kritischen Anwendungen.