Produkte
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Industrieller Saphir-Hebestab und -Stift, hochfester Al2O3-Saphirstift für Wafer-Handling, Radarsysteme und Halbleiterverarbeitung – Durchmesser 1,6 mm bis 2 mm
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Kundenspezifischer Saphir-Hebestift, optische Bauteile aus hochfestem Al₂O₃-Einkristall für Wafer-Transfer – Durchmesser 1,6 mm, 1,8 mm, anpassbar für industrielle Anwendungen
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Saphirkugellinse, optisch hochwertiges Al₂O₃-Material, Transmissionsbereich 0,15–5,5 µm, Durchmesser 1 mm, 1,5 mm
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Saphirkugel, Durchmesser 1,0 1,1 1,5 mm, für optische Kugellinsen, hochharter Einkristall
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Saphirglas, farbiges Saphirglas für Uhren, anpassbarer Durchmesser 40/38 mm, Dicke 350 µm/550 µm, hochtransparent
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InSb-Wafer 2 Zoll 3 Zoll undotiert N-Typ P-Typ Orientierung 111 100 für Infrarotdetektoren
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Indiumantimonid (InSb)-Wafer, N-Typ, P-Typ, Epi-fertig, undotiert, Te-dotiert oder Ge-dotiert, 2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll Dicke
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2-Zoll-Einzelwafer-Kassette, Waferbox aus PP oder PC. Verwendung in Wafer-Coin-Lösungen. Erhältlich in den Größen 1 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 5 Zoll, 6 Zoll und 12 Zoll.
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SiC-Wafer 4H-N 6H-N HPSI 4H-semi 6H-semi 4H-P 6H-P 3C Typ 2 Zoll 3 Zoll 4 Zoll 6 Zoll 8 Zoll
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KY- und EFG-Saphirverfahren, Saphirstäbe, Rohr, Hochdruck
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Saphirbarren 3 Zoll, 4 Zoll, 6 Zoll, Monokristall, Zirkonia, KY-Verfahren, individuell anpassbar
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Hochleistungs-Epitaxie-Wafer aus GaAs (Galliumarsenid) für Laserbehandlungen mit einer Wellenlänge von 905 nm.