Produkte
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Galliumnitrid auf Silizium-Wafer 4 Zoll 6 Zoll Maßgeschneiderte Si-Substratausrichtung, Widerstand und N-Typ/P-Typ-Optionen
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Kundenspezifische GaN-auf-SiC-Epitaxie-Wafer (100 mm, 150 mm) – Mehrere SiC-Substratoptionen (4H-N, HPSI, 4H/6H-P)
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GaN-auf-Diamant-Wafer 4 Zoll 6 Zoll Gesamtepi-Dicke (Mikron) 0,6 ~ 2,5 oder kundenspezifisch für Hochfrequenzanwendungen
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FOSB-Waferträgerbox, 25 Steckplätze für 12-Zoll-Wafer, präziser Abstand für automatisierte Vorgänge, ultrareine Materialien
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12 Zoll (300 mm) Versandbox mit Frontöffnung, FOSB-Wafer-Trägerbox, 25 Stück Kapazität für Wafer-Handhabung und -Versand, automatisierte Vorgänge
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Präzisionslinsen aus monokristallinem Silizium (Si) – kundenspezifische Größen und Beschichtungen für Optoelektronik und Infrarotbildgebung
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Maßgeschneiderte Linsen aus hochreinem Silizium-Einkristall (Si) – Maßgeschneiderte Größen und Beschichtungen für Infrarot- und THz-Anwendungen (1,2–7 µm, 8–12 µm)
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Maßgeschneidertes optisches Stufenfenster aus Saphir, Al2O3-Einkristall, hohe Reinheit, Durchmesser 45 mm, Dicke 10 mm, lasergeschnitten und poliert
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Hochleistungs-Saphir-Stufenfenster, Al2O3-Einkristall, transparent beschichtet, kundenspezifische Formen und Größen für optische Präzisionsanwendungen
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Hochleistungs-Saphir-Hebestift, reiner Al2O3-Einkristall für Wafer-Transfersysteme – Sondergrößen, hohe Haltbarkeit für Präzisionsanwendungen
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Industrielle Saphir-Hubstange und -Stift, hochharter Al2O3-Saphirstift für Waferhandhabung, Radarsysteme und Halbleiterverarbeitung – Durchmesser 1,6 mm bis 2 mm
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Maßgeschneiderter Saphir-Hebestift, hochharte optische Al2O3-Einkristallteile für den Wafertransfer – Durchmesser 1,6 mm, 1,8 mm, anpassbar für industrielle Anwendungen