Premium Saphir-Hebestifte Einkristall-Al₂O₃-Wafer-Hebestift
Technische Parameter
| Chemische Zusammensetzung | Al2O3 |
| Härte | 9Mohs |
| Optische Natur | Einachsig |
| Brechungsindex | 1.762-1.770 |
| Doppelbrechung | 0,008–0,010 |
| Dispersion | Niedrig, 0,018 |
| Lüster | Glaskörper |
| Pleochroismus | Mäßig bis stark |
| Durchmesser | 0,4 mm bis 30 mm |
| Durchmessertoleranz | 0,004 mm bis 0,05 mm |
| Länge | 2 mm bis 150 mm |
| Längentoleranz | 0,03 mm bis 0,25 mm |
| Oberflächenqualität | 40/20 |
| Oberflächenrundheit | RZ0,05 |
| Benutzerdefinierte Form | beide Enden flach, ein Ende rot, beide Enden rot, Sattelstifte und Sonderformen |
Hauptmerkmale
1. Außergewöhnliche Härte und Verschleißfestigkeit: Mit einer Mohshärte von 9, die nur von Diamant übertroffen wird, weisen Saphir-Hubstifte Verschleißeigenschaften auf, die herkömmliche Alternativen aus Siliziumkarbid, Aluminiumoxidkeramik oder Metalllegierungen deutlich übertreffen. Diese extreme Härte führt zu einer deutlich reduzierten Partikelbildung und einem geringeren Wartungsaufwand. Die Lebensdauer ist in der Regel drei- bis fünfmal länger als bei herkömmlichen Materialien in vergleichbaren Anwendungen.
2. Überragende Hochtemperaturbeständigkeit: Saphir-Hebestifte sind für den Dauerbetrieb bei Temperaturen über 1000 °C ohne Qualitätsverlust ausgelegt und behalten ihre Dimensionsstabilität und mechanische Festigkeit auch bei anspruchsvollsten thermischen Prozessen. Dies macht sie besonders wertvoll für kritische Anwendungen wie die chemische Gasphasenabscheidung (CVD), die metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) und Hochtemperatur-Glühsysteme, bei denen eine ungleiche Wärmeausdehnung die Prozessausbeute beeinträchtigen kann.
3. Chemische Inertheit: Die Struktur des Saphir-Einkristalls weist eine bemerkenswerte Widerstandsfähigkeit gegen HF-Säure, chlorbasierte Chemikalien und andere aggressive Prozessgase auf, die in der Halbleiterfertigung häufig vorkommen. Diese chemische Stabilität gewährleistet eine gleichbleibende Leistung in Plasmaumgebungen und verhindert die Bildung von Oberflächendefekten, die zu einer Waferkontamination führen könnten.
4. Geringe Partikelkontamination: Hergestellt aus fehlerfreien, hochreinen Saphirkristallen (typischerweise >99,99 %), weisen diese Hubstifte selbst nach längerem Gebrauch nur minimale Partikelablösung auf. Ihre porenfreie Oberflächenstruktur und die polierten Oberflächen erfüllen strengste Reinraumanforderungen und tragen so direkt zu verbesserten Prozesserträgen in der Fertigung fortschrittlicher Halbleiterknoten bei.
Hochpräzise Bearbeitung: Durch den Einsatz modernster Diamantschleif- und Laserbearbeitungsverfahren können Saphir-Hebestifte mit Toleranzen im Submikrometerbereich und Oberflächengüten unter 0,05 μm Ra hergestellt werden. Kundenspezifische Geometrien, darunter konische Profile, spezielle Spitzenkonfigurationen und integrierte Ausrichtungsfunktionen, können entwickelt werden, um spezifische Herausforderungen bei der Waferhandhabung in Fertigungsanlagen der nächsten Generation zu bewältigen.
Primäre Anwendungen
1. Halbleiterfertigung: Saphir-Hebestifte spielen eine entscheidende Rolle in modernen Waferverarbeitungssystemen und bieten zuverlässigen Halt und präzise Positionierung bei Fotolithografie-, Ätz-, Abscheidungs- und Inspektionsprozessen. Ihre thermische und chemische Stabilität macht sie besonders wertvoll für EUV-Lithografiewerkzeuge und fortschrittliche Verpackungsanwendungen, bei denen Dimensionsstabilität im Nanometerbereich unerlässlich ist.
2. LED-Epitaxie (MOCVD): In Galliumnitrid (GaN) und verwandten Verbindungshalbleiter-Epitaxiesystemen sorgen Saphir-Lift-Pins für eine stabile Waferunterstützung bei Temperaturen oft über 1000 °C. Ihre auf Saphirsubstrate abgestimmten Wärmeausdehnungseigenschaften minimieren Waferverbiegungen und Schlupfbildung während des Epitaxieprozesses.
3. Photovoltaikindustrie: Die Herstellung hocheffizienter Solarzellen profitiert von den einzigartigen Eigenschaften von Saphir bei Hochtemperaturdiffusions-, Sinter- und Dünnschichtabscheidungsprozessen. Die Verschleißfestigkeit der Stifte ist besonders in der Massenproduktion wertvoll, da die Langlebigkeit der Komponenten die Herstellungskosten direkt beeinflusst.
4. Präzisionsoptik und Elektronikverarbeitung: Über Halbleiteranwendungen hinaus finden Saphir-Hebestifte Anwendung in der Handhabung empfindlicher optischer Komponenten, MEMS-Bauelementen und Spezialsubstraten, bei denen kontaminationsfreie Verarbeitung und Kratzschutz entscheidend sind. Ihre elektrischen Isolationseigenschaften machen sie ideal für Anwendungen mit elektrostatisch empfindlichen Bauteilen.
XKH-Services für Saphir-Hubstifte
XKH bietet umfassenden technischen Support und maßgeschneiderte Lösungen für Sapphire Lift Pins:
1. Kundenspezifische Entwicklungsdienste
· Unterstützung für die Anpassung von Abmessungen, Geometrie und Oberflächenbehandlung
· Empfehlungen zur Materialauswahl und Optimierung der technischen Parameter
· Gemeinsames Produktdesign und Simulationsüberprüfung
2. Präzisionsfertigungskapazitäten
· Hochpräzise Bearbeitung mit Toleranzen innerhalb von ±1 μm
· Spezielle Behandlungen einschließlich Hochglanzpolieren und Kantenfasen
· Optionale Oberflächenmodifizierungslösungen wie Antihaftbeschichtungen
3. Qualitätssicherungssystem
· Strikte Umsetzung der Wareneingangsprüfung und Prozesskontrolle
· Volldimensionale optische Inspektion und Analyse der Oberflächenmorphologie
· Bereitstellung von Produktleistungstestberichten
4. Lieferkettendienste
· Schnelle Lieferung von Standardprodukten
· Spezielles Bestandsmanagement für Großkunden
5. Technischer Support
· Anwendungslösungsberatung
· Schnelle Reaktion nach dem Verkauf
Wir haben uns verpflichtet, qualitativ hochwertige Sapphire Lift Pins-Produkte und professionelle technische Dienstleistungen anzubieten, um die strengen Anforderungen der Halbleiter-, LED- und anderer fortschrittlicher Branchen zu erfüllen.
