Ni Substrat/Wafer Einkristall kubische Struktur a=3,25A Dichte 8,91

Ni-Substrat/Wafer, einkristalline kubische Struktur, a=3,25A, Dichte 8,91, Ausgewähltes Bild

Kurze Beschreibung:

Nickelsubstrate (Ni), insbesondere in Form von Nickelwafern, finden aufgrund ihrer vielseitigen Eigenschaften breite Anwendung in der Materialwissenschaft und Elektronikforschung. Diese Substrate sind in den Abmessungen 5 x 5 x 0,5 mm, 10 x 10 x 1 mm und 20 x 20 x 0,5 mm erhältlich und entlang wichtiger kristallografischer Ebenen wie <100>, <110> und <111> ausgerichtet. Diese Ausrichtungen sind entscheidend für die Dünnschichtabscheidung, das epitaktische Wachstum und Oberflächenuntersuchungen, da sie eine präzise Gitteranpassung an verschiedene Materialien ermöglichen. Aufgrund ihrer hervorragenden thermischen und elektrischen Leitfähigkeit werden Nickelsubstrate häufig in Anwendungen wie Katalyse, magnetischen Materialien und Supraleitern eingesetzt. Ihre hohe mechanische Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit machen sie zudem geeignet für fortschrittliche Beschichtungsverfahren, die Sensorentwicklung und die Nanoelektronik. Die Kombination aus kristallografischer Präzision, Dimensionsflexibilität und hochwertigem Nickelmaterial gewährleistet, dass diese Substrate in experimentellen und industriellen Anwendungen optimale Leistung erbringen. Aufgrund ihrer Fähigkeit, eine breite Palette dünner Filme und Beschichtungen zu tragen, sind Ni-Substrate von wesentlicher Bedeutung für die Entwicklung neuer Materialien und Geräte in verschiedenen Hightech-Bereichen.

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Produktdetail

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Spezifikation

Die kristallografischen Orientierungen von Nickelsubstraten, wie beispielsweise <100>, <110> und <111>, spielen eine entscheidende Rolle bei der Bestimmung der Oberflächen- und Wechselwirkungseigenschaften des Materials. Diese Orientierungen ermöglichen die Gitteranpassung an verschiedene Dünnschichtmaterialien und unterstützen so das präzise Wachstum epitaktischer Schichten. Darüber hinaus macht die Korrosionsbeständigkeit von Nickel das Material auch in rauen Umgebungen beständig, was für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, der Schifffahrt und der chemischen Verarbeitung von Vorteil ist. Die mechanische Festigkeit stellt zudem sicher, dass Nickelsubstrate den Belastungen physikalischer Verarbeitung und Experimente standhalten, ohne sich zu zersetzen, und bieten so eine stabile Basis für Dünnschichtabscheidungs- und Beschichtungstechnologien. Diese Kombination aus thermischen, elektrischen und mechanischen Eigenschaften macht Nickelsubstrate unverzichtbar für die Spitzenforschung in den Bereichen Nanotechnologie, Oberflächenwissenschaften und Elektronik.
Zu den Eigenschaften von Nickel zählen hohe Härte und Festigkeit, die bis zu 48–55 HRC erreichen können. Die gute Korrosionsbeständigkeit, insbesondere gegenüber Säuren, Laugen und anderen chemischen Medien, weist eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit auf. Gute elektrische Leitfähigkeit und Magnetismus sind eine der Hauptkomponenten bei der Herstellung elektromagnetischer Legierungen.
Nickel kann in vielen Bereichen eingesetzt werden, beispielsweise als leitfähiges Material für elektronische Bauteile und als Kontaktmaterial. Es wird zur Herstellung von Batterien, Motoren, Transformatoren und anderen elektromagnetischen Geräten verwendet. Es wird in elektronischen Steckverbindern, Übertragungsleitungen und anderen elektrischen Systemen eingesetzt. Es dient als Strukturmaterial für chemische Anlagen, Behälter, Rohrleitungen usw. Es wird zur Herstellung chemischer Reaktionsgeräte mit hohen Anforderungen an die Korrosionsbeständigkeit verwendet. Es wird in der Pharmazie, Petrochemie und anderen Bereichen eingesetzt, in denen die Korrosionsbeständigkeit der Materialien unbedingt erforderlich ist.

Nickelsubstrate (Ni) finden aufgrund ihrer vielseitigen physikalischen, chemischen und kristallografischen Eigenschaften zahlreiche Anwendungen in einer Reihe von wissenschaftlichen und industriellen Bereichen. Im Folgenden sind einige der wichtigsten Anwendungen von Ni-Substraten aufgeführt: Nickelsubstrate werden häufig bei der Abscheidung von dünnen Filmen und epitaktischen Schichten verwendet. Die spezifischen kristallografischen Orientierungen von Ni-Substraten, wie z. B. <100>, <110> und <111>, bieten eine Gitteranpassung an verschiedene Materialien und ermöglichen so ein präzises und kontrolliertes Wachstum dünner Filme. Ni-Substrate werden häufig bei der Entwicklung magnetischer Speichergeräte, Sensoren und spintronischer Geräte verwendet, bei denen die Kontrolle des Elektronenspins entscheidend für die Verbesserung der Geräteleistung ist. Nickel ist ein ausgezeichneter Katalysator für Wasserstoffentwicklungsreaktionen (HER) und Sauerstoffentwicklungsreaktionen (OER), die bei der Wasserspaltung und in der Brennstoffzellentechnologie entscheidend sind. Ni-Substrate werden in diesen Anwendungen oft als Trägermaterial für katalytische Beschichtungen eingesetzt und tragen zu effizienten Energieumwandlungsprozessen bei.
Wir können verschiedene Spezifikationen, Dicken und Formen von Ni-Einkristallsubstraten entsprechend den spezifischen Anforderungen der Kunden anpassen.

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