Ni-Substrat/Wafer-Einkristall, kubische Struktur a = 3,25 A, Dichte 8,91

Kurzbeschreibung:

Nickel (Ni)-Substrate, insbesondere in Form von Nickelwafern, werden aufgrund ihrer vielseitigen Eigenschaften häufig in der Materialwissenschaft und Elektronikforschung eingesetzt. Diese Substrate sind in den Abmessungen 5 x 5 x 0,5 mm, 10 x 10 x 1 mm und 20 x 20 x 0,5 mm erhältlich und entlang wichtiger kristallografischer Ebenen wie <100>, <110> und <111> ausgerichtet. Diese Orientierungen sind von entscheidender Bedeutung für die Dünnschichtabscheidung, das epitaktische Wachstum und Oberflächenstudien, da sie eine präzise Gitteranpassung an verschiedene Materialien ermöglichen. Nickelsubstrate werden aufgrund ihrer hervorragenden thermischen und elektrischen Leitfähigkeit häufig in Anwendungen im Zusammenhang mit Katalyse, magnetischen Materialien und Supraleitern eingesetzt. Aufgrund ihrer hohen mechanischen Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit eignen sie sich auch für fortschrittliche Beschichtungstechniken, Sensorentwicklung und Nanoelektronik. Die Kombination aus kristallographischer Präzision, Dimensionsflexibilität und hochwertigem Nickelmaterial stellt sicher, dass diese Substrate eine optimale Leistung in experimentellen und industriellen Anwendungen bieten. Mit ihrer Fähigkeit, ein breites Spektrum dünner Filme und Beschichtungen zu unterstützen, sind Ni-Substrate ein wesentlicher Bestandteil der Entwicklung neuer Materialien und Geräte in verschiedenen High-Tech-Bereichen.

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Spezifikation

Die kristallographischen Orientierungen von Ni-Substraten wie <100>, <110> und <111> spielen eine entscheidende Rolle bei der Bestimmung der Oberflächen- und Wechselwirkungseigenschaften des Materials. Diese Ausrichtungen ermöglichen eine Gitteranpassung an verschiedene Dünnschichtmaterialien und unterstützen ein präzises Wachstum epitaktischer Schichten. Darüber hinaus macht die Korrosionsbeständigkeit von Nickel es langlebig in rauen Umgebungen, was für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt, Schifffahrt und chemischen Verarbeitung von Vorteil ist. Seine mechanische Festigkeit stellt außerdem sicher, dass Ni-Substrate den Strapazen physikalischer Verarbeitung und Experimente standhalten, ohne sich zu verschlechtern, und bietet so eine stabile Basis für Dünnschichtabscheidungs- und Beschichtungstechnologien. Diese Kombination aus thermischen, elektrischen und mechanischen Eigenschaften macht Ni-Substrate für die fortgeschrittene Forschung in der Nanotechnologie, Oberflächenwissenschaft und Elektronik unverzichtbar.
Zu den Eigenschaften von Nickel gehören eine hohe Härte und Festigkeit, die bis zu 48–55 HRC betragen kann. Gute Korrosionsbeständigkeit, insbesondere gegenüber Säuren und Laugen sowie anderen chemischen Medien, weisen eine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit auf. Gute elektrische Leitfähigkeit und Magnetismus sind eine der Hauptkomponenten bei der Herstellung elektromagnetischer Legierungen.
Nickel kann in vielen Bereichen eingesetzt werden, beispielsweise als leitfähiges Material für elektronische Bauteile und als Kontaktmaterial. Wird zur Herstellung von Batterien, Motoren, Transformatoren und anderen elektromagnetischen Geräten verwendet. Wird in elektronischen Steckverbindern, Übertragungsleitungen und anderen elektrischen Systemen verwendet. Als Strukturmaterial für chemische Geräte, Behälter, Rohrleitungen usw. Wird zur Herstellung chemischer Reaktionsgeräte mit hohen Anforderungen an die Korrosionsbeständigkeit verwendet. Es wird in pharmazeutischen, petrochemischen und anderen Bereichen eingesetzt, in denen Korrosionsbeständigkeit von Materialien unbedingt erforderlich ist.

Nickelsubstrate (Ni) finden aufgrund ihrer vielseitigen physikalischen, chemischen und kristallografischen Eigenschaften zahlreiche Anwendungen in einer Vielzahl von wissenschaftlichen und industriellen Bereichen. Nachfolgend sind einige der wichtigsten Anwendungen von Ni-Substraten aufgeführt: Nickelsubstrate werden häufig bei der Abscheidung dünner Filme und epitaktischer Schichten verwendet. Die spezifischen kristallographischen Ausrichtungen von Ni-Substraten, wie etwa <100>, <110> und <111>, ermöglichen eine Gitteranpassung an verschiedene Materialien und ermöglichen so ein präzises und kontrolliertes Wachstum dünner Filme. Ni-Substrate werden häufig bei der Entwicklung magnetischer Speichergeräte, Sensoren und spintronischer Geräte verwendet, bei denen die Steuerung des Elektronenspins der Schlüssel zur Verbesserung der Geräteleistung ist. Nickel ist ein ausgezeichneter Katalysator für Wasserstoffentwicklungsreaktionen (HER) und Sauerstoffentwicklungsreaktionen (OER), die bei der Wasserspaltung und der Brennstoffzellentechnologie von entscheidender Bedeutung sind. Ni-Substrate werden in diesen Anwendungen häufig als Trägermaterialien für katalytische Beschichtungen verwendet und tragen zu effizienten Energieumwandlungsprozessen bei.
Wir können verschiedene Spezifikationen, Dicken und Formen des Ni-Einkristallsubstrats entsprechend den spezifischen Anforderungen des Kunden anpassen.

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