Microjet-Wasserstrahl-Laserschneidsystem für fortschrittliche Materialien

Kurze Beschreibung:

Überblick:

Da sich die Industrie zunehmend in Richtung fortschrittlicher Halbleiter und multifunktionaler Materialien bewegt, sind präzise und dennoch schonende Bearbeitungslösungen von entscheidender Bedeutung. Dieses wassergeführte Mikrostrahl-Laserbearbeitungssystem wurde speziell für solche Aufgaben entwickelt. Es kombiniert Festkörper-Nd:YAG-Lasertechnologie mit einer Hochdruck-Mikrostrahl-Wasserleitung und liefert Energie mit äußerster Präzision und minimaler thermischer Belastung.

Dieses System unterstützt Wellenlängen von 532 nm und 1064 nm mit Leistungskonfigurationen von 50 W, 100 W oder 200 W und ist eine bahnbrechende Lösung für Hersteller, die mit Materialien wie SiC, GaN, Diamant und Keramikverbundwerkstoffen arbeiten. Es eignet sich besonders für Fertigungsaufgaben in den Bereichen Elektronik, Luft- und Raumfahrt, Optoelektronik und saubere Energie.


Merkmale

Top-Vorteile

1. Unvergleichliche Energiefokussierung durch Wasserführung
Durch die Verwendung eines fein unter Druck stehenden Wasserstrahls als Laserwellenleiter eliminiert das System Luftstörungen und gewährleistet eine vollständige Fokussierung des Lasers. Das Ergebnis sind ultraschmale Schnittbreiten – bis zu 20 μm – mit scharfen, sauberen Kanten.

2. Minimaler Wärmefußabdruck
Die Echtzeit-Wärmeregulierung des Systems stellt sicher, dass die Wärmeeinflusszone nie größer als 5 μm ist, was für die Erhaltung der Materialleistung und die Vermeidung von Mikrorissen von entscheidender Bedeutung ist.

3. Breite Materialkompatibilität
Die Ausgabe mit zwei Wellenlängen (532 nm/1064 nm) bietet eine verbesserte Absorptionsabstimmung, wodurch die Maschine an eine Vielzahl von Substraten angepasst werden kann, von optisch transparenten Kristallen bis hin zu undurchsichtiger Keramik.

4. Schnelle und hochpräzise Bewegungssteuerung
Mit Optionen für Linear- und Direktantriebsmotoren unterstützt das System hohe Durchsatzanforderungen ohne Kompromisse bei der Genauigkeit. Die Fünf-Achsen-Bewegung ermöglicht zudem die Erstellung komplexer Muster und multidirektionale Schnitte.

5. Modulares und skalierbares Design
Benutzer können Systemkonfigurationen basierend auf den Anwendungsanforderungen anpassen – vom Prototyping im Labor bis hin zu Bereitstellungen im Produktionsmaßstab – und so das System für den Einsatz in den Bereichen Forschung und Entwicklung sowie Industrie einsetzen.

Anwendungsbereiche

Halbleiter der dritten Generation:
Das System ist perfekt für SiC- und GaN-Wafer geeignet und führt Dicing, Trenching und Slicing mit außergewöhnlicher Kantenintegrität durch.

Bearbeitung von Diamant- und Oxidhalbleitern:
Wird zum Schneiden und Bohren von Materialien mit hoher Härte wie Einkristalldiamant und Ga₂O₃ verwendet, ohne Karbonisierung oder thermische Verformung.

Fortschrittliche Luft- und Raumfahrtkomponenten:
Unterstützt die strukturelle Formgebung hochfester Keramikverbundstoffe und Superlegierungen für Komponenten von Düsentriebwerken und Satelliten.

Photovoltaik- und Keramiksubstrate:
Ermöglicht gratfreies Schneiden von dünnen Wafern und LTCC-Substraten, einschließlich Durchgangslöchern und Schlitzfräsen für Verbindungselemente.

Szintillatoren und optische Komponenten:
Erhält die Oberflächenglätte und -durchlässigkeit in empfindlichen optischen Materialien wie Ce:YAG, LSO und anderen.

Spezifikation

Besonderheit

Spezifikation

Laserquelle DPSS Nd:YAG
Wellenlängenoptionen 532 nm / 1064 nm
Leistungsstufen 50 / 100 / 200 Watt
Präzision ±5 μm
Schnittbreite Nur 20 μm schmal
Wärmeeinflusszone ≤5μm
Bewegungstyp Linear-/Direktantrieb
Unterstützte Materialien SiC, GaN, Diamant, Ga₂O₃ usw.

 

Warum dieses System wählen?

● Beseitigt typische Probleme der Laserbearbeitung wie thermische Risse und Kantenabsplitterungen
● Verbessert Ausbeute und Konsistenz bei teuren Materialien
● Anpassbar sowohl für den Pilotmaßstab als auch für den industriellen Einsatz
● Zukunftssichere Plattform für die Weiterentwicklung der Materialwissenschaft

Fragen und Antworten

F1: Welche Materialien kann dieses System verarbeiten?
A: Das System ist speziell für harte und spröde hochwertige Materialien konzipiert. Es kann Siliziumkarbid (SiC), Galliumnitrid (GaN), Diamant, Galliumoxid (Ga₂O₃), LTCC-Substrate, Verbundwerkstoffe für die Luft- und Raumfahrt, Photovoltaik-Wafer und Szintillatorkristalle wie Ce:YAG oder LSO effektiv verarbeiten.

F2: Wie funktioniert die wassergeführte Lasertechnologie?
A: Es nutzt einen Hochdruck-Mikrostrahl aus Wasser, um den Laserstrahl durch Totalreflexion zu lenken und die Laserenergie effektiv mit minimaler Streuung zu kanalisieren. Dies gewährleistet eine ultrafeine Fokussierung, geringe Wärmebelastung und präzise Schnitte mit Linienbreiten von bis zu 20 μm.

F3: Welche Laserleistungskonfigurationen sind verfügbar?
A: Kunden können je nach Bedarf an Verarbeitungsgeschwindigkeit und Auflösung zwischen Laserleistungsoptionen von 50 W, 100 W und 200 W wählen. Alle Optionen gewährleisten eine hohe Strahlstabilität und Wiederholgenauigkeit.

Detailliertes Diagramm

1f41ce57-89a3-4325-927f-b031eae2a880
1f8611ce1d7cd3fad4bde96d6d1f419
555661e8-19e8-4dab-8e75-d40f63798804
b71927d8fbb69bca7d09b8b351fc756
dca5b97157b74863c31f2d347b69b3a

  • Vorherige:
  • Nächste:

  • Schreiben Sie hier Ihre Nachricht und senden Sie sie an uns