Industrielles SiC-Vertikalofenrohr – Hohe Wärmeleitfähigkeit und Korrosionsbeständigkeit

Kurzbeschreibung:

Unser Siliziumkarbidrohr (SiC) wurde als äußeres Prozessrohr für Vertikalöfen entwickelt und gewährleistet eine präzise kontrollierte Atmosphäre sowie ein hochgradig gleichmäßiges Temperaturfeld. Es ist für den dauerhaften Einsatz bei Temperaturen von ca. 1200 °C und komplexen Prozessgasen ausgelegt und erfordert höchste Reinheit, starke thermische Leistung und absolute Stabilität.

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Merkmale

Detailliertes Diagramm

Vertikale Ofenrohre aus Siliziumkarbid – Produktübersicht

Quarzglasplatten, auch bekannt als Quarzglasplatten, sind hochspezialisierte Werkstoffe aus hochreinem Siliziumdioxid (SiO₂). Diese transparenten und langlebigen Platten zeichnen sich durch ihre außergewöhnliche optische Klarheit, Wärmebeständigkeit und chemische Stabilität aus. Aufgrund ihrer hervorragenden Eigenschaften finden Quarzglasplatten in zahlreichen Branchen breite Anwendung, darunter Halbleiterindustrie, Optik, Photonik, Solarenergie, Metallurgie und moderne Laboranwendungen.

Unsere Quarzglasplatten werden aus hochwertigen Rohstoffen wie natürlichem Kristall oder synthetischem Siliziumdioxid hergestellt und mit präzisen Schmelz- und Polierverfahren verarbeitet. Das Ergebnis ist eine ultra-ebene, reine und blasenfreie Oberfläche, die höchsten Ansprüchen moderner Industrieprozesse genügt.

Hauptmerkmale

Einteilige 3D-gedruckte Struktur
Durch die Vermeidung von Nähten und Spannungskonzentrationen werden mechanische Festigkeit und Zuverlässigkeit maximiert.

extrem geringe Verunreinigungen
Grundmaterial300 ppm; CVD-beschichtete Oberfläche5 ppm—Minimierung von Verunreinigungen für eine ultrareine Verarbeitung.

Hohe Wärmeleitfähigkeit
Eine schnelle und gleichmäßige Wärmeübertragung ermöglicht eine präzise Temperaturregelung und eine hohe Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer hinweg.

Ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit
Hält häufigen Temperaturwechseln stand, ohne zu reißen – verlängert die Lebensdauer und reduziert den Wartungsaufwand.

Überragende Korrosionsbeständigkeit
Die CVD-SiC-Oberfläche bietet Schutz vor aggressiven Chemikalien und unterschiedlichen Atmosphären und gewährleistet so eine langfristige Stabilität.

Anwendungen

Halbleiter:Oxidation, Diffusion, Glühen – jeder Schritt, der strikte Temperaturhomogenität und Reinheit erfordert.
Photovoltaik:Wafer-Texturierung, Diffusion, Passivierung mit stabilen, reproduzierbaren Ergebnissen.
Fortschrittliche Werkstoffe und Wärmebehandlung:Einheitliche Hochtemperaturumgebungen für Forschungs- und Entwicklungs- sowie Produktionsanlagen.

Häufig gestellte Fragen

Frage 1: Hauptanwendungen?
A:Halbleiter-, Photovoltaik- und fortgeschrittene Materialprozesse – z. B. Diffusion, Oxidation, Tempern und Passivierung – bei denen die Gleichmäßigkeit von Atmosphäre und Temperatur den Ertrag bestimmt.

Frage 2: Maximale Betriebstemperatur?
A:Bewertung bis≤ 1300 ℃; der typische Dauerbetrieb dauert etwa1200 °Cmit ausgezeichneter struktureller Stabilität.

Frage 3: Wie schneidet es im Vergleich zu Quarz- oder Aluminiumoxidrohren ab?
A:SiC bietet höhere Temperaturbeständigkeit, eine wesentlich bessere Wärmeleitfähigkeit, überlegene Temperaturwechselbeständigkeit, längere Lebensdauer und deutlich geringere Verunreinigungsgrade – ideal für die Anforderungen moderner Halbleiter und Photovoltaik.

Über uns

XKH ist spezialisiert auf die Entwicklung, Produktion und den Vertrieb von Spezialglas und neuen Kristallmaterialien. Unsere Produkte finden Anwendung in der Optoelektronik, der Unterhaltungselektronik und im Militärbereich. Wir bieten optische Saphirkomponenten, Objektivabdeckungen für Mobiltelefone, Keramik, LT, Siliziumkarbid (SiC), Quarz und Halbleiterkristallwafer an. Dank unserer Expertise und modernster Ausrüstung zeichnen wir uns durch die Fertigung von Sonderanfertigungen aus und streben die Position eines führenden Hightech-Unternehmens für optoelektronische Materialien an.