GaAs-Laser-Epitaxie-Wafer, 4 Zoll, 6 Zoll, VCSEL, vertikaler Hohlraum, Oberflächenemissionslaser, Wellenlänge 940 nm, Einzelverbindung
Zu den Hauptmerkmalen der GaAs-Laserepitaxiefolie gehören:
1. Single-Junction-Struktur: Dieser Laser besteht normalerweise aus einem einzelnen Quantentopf, der eine effiziente Lichtemission ermöglichen kann.
2. Wellenlänge: Die Wellenlänge von 940 nm liegt im Infrarot-Spektrumbereich und eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen.
3. Hohe Effizienz: Im Vergleich zu anderen Lasertypen weist VCSEL eine hohe elektrooptische Umwandlungseffizienz auf.
4. Kompaktheit: Das VCSEL-Paket ist relativ klein und einfach zu integrieren.
5. Niedriger Schwellenstrom und hohe Effizienz: Vergrabene Heterostrukturlaser weisen eine extrem niedrige Laserschwellenstromdichte (z. B. 4 mA/cm²) und eine hohe externe Differenzquanteneffizienz (z. B. 36 %) auf, wobei die lineare Ausgangsleistung 15 mW übersteigt.
6. Stabilität des Wellenleitermodus: Der vergrabene Heterostrukturlaser hat aufgrund seines brechungsindexgeführten Wellenleitermechanismus und der schmalen aktiven Streifenbreite (ca. 2 μm) den Vorteil der Stabilität des Wellenleitermodus.
7. Ausgezeichnete photoelektrische Umwandlungseffizienz: Durch die Optimierung des epitaktischen Wachstumsprozesses können eine hohe interne Quanteneffizienz und eine hohe photoelektrische Umwandlungseffizienz erreicht werden, um interne Verluste zu reduzieren.
8. Hohe Zuverlässigkeit und Lebensdauer: Mit einer hochwertigen Epitaxie-Wachstumstechnologie können Epitaxieplatten mit gutem Oberflächenaussehen und geringer Defektdichte hergestellt werden, wodurch die Produktzuverlässigkeit und -lebensdauer verbessert werden.
9. Geeignet für eine Vielzahl von Anwendungen: GAAS-basierte Laserdioden-Epitaxiefolien werden häufig in der Glasfaserkommunikation, industriellen Anwendungen, Infrarot- und Fotodetektoren und anderen Bereichen eingesetzt.
Zu den Hauptanwendungsmöglichkeiten von GaAs-Laserepitaxieplatten gehören:
1. Optische Kommunikation und Datenkommunikation: GaAs-Epitaxiewafer werden häufig im Bereich der optischen Kommunikation, insbesondere in optischen Hochgeschwindigkeitskommunikationssystemen, zur Herstellung optoelektronischer Geräte wie Laser und Detektoren verwendet.
2. Industrielle Anwendungen: GaAs-Laserepitaxiefolien finden auch wichtige Anwendungen in industriellen Anwendungen wie Laserbearbeitung, Messung und Sensorik.
3. Unterhaltungselektronik: In der Unterhaltungselektronik werden epitaktische GaAs-Wafer zur Herstellung von VCsels (oberflächenemittierenden Lasern mit vertikalem Hohlraum) verwendet, die in Smartphones und anderer Unterhaltungselektronik weit verbreitet sind.
4. HF-Anwendungen: GaAs-Materialien bieten erhebliche Vorteile im HF-Bereich und werden zur Herstellung leistungsstarker HF-Geräte verwendet.
5. Quantenpunktlaser: GAAS-basierte Quantenpunktlaser werden häufig in den Bereichen Kommunikation, Medizin und Militär eingesetzt, insbesondere im optischen Kommunikationsband von 1,31 µm.
6. Passiver Güteschalter: Der GaAs-Absorber wird für diodengepumpte Festkörperlaser mit passivem Güteschalter verwendet, der für Mikrobearbeitung, Entfernungsmessung und Mikrochirurgie geeignet ist.
Diese Anwendungen demonstrieren das Potenzial von GaAs-Laserepitaxiewafern in einer Vielzahl von High-Tech-Anwendungen.
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