Bionisches Anti-Rutsch-Pad Wafer mit Vakuumsauger Reibungspad Saugnapf

Bionisches Anti-Rutsch-Pad Wafer tragen Vakuumsauger Reibungspad Saugnapf Ausgewähltes Bild

Kurze Beschreibung:

Die bionische Antirutschmatte ist ein leistungsstarkes Antirutschprodukt, das nach bionischen Prinzipien entwickelt wurde. Sie wird mithilfe fortschrittlicher Mikro- und Nanotechnologie hergestellt, indem die mikroskopischen Eigenschaften biologischer Strukturen wie Geckofüße und Oktopussauger simuliert werden. Dieses Produkt durchbricht die technischen Grenzen herkömmlicher Antirutschmaterialien und bietet bahnbrechende Funktionen wie klebstofffreie Haftung, Wiederverwendbarkeit und Umweltverträglichkeit. Als intelligente Antirutschlösung der neuen Generation vereint sie die Innovationsergebnisse aus Materialwissenschaft, Oberflächentechnik und Maschinenbau perfekt und zeigt einen hervorragenden Anwendungswert in der industriellen Fertigung, der Medizintechnik, der Unterhaltungselektronik und weiteren Bereichen.

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Produktdetail

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Eigenschaften des bionischen Anti-Rutsch-Pads:

• Durch die Verwendung eines speziellen technischen Elastomer-Verbundmaterials wird ein rückstandsfreier, umweltfreundlicher und rutschfester Effekt erzielt, der perfekt auf die Umgebungsanforderungen bei der Halbleiterherstellung zugeschnitten ist.

• Durch präzises Design von Mikro-Nanostruktur-Arrays werden die Oberflächenreibungseigenschaften intelligent gesteuert, während ein hoher Reibungskoeffizient beibehalten und gleichzeitig eine extrem geringe Haftung erreicht wird.

• Das einzigartige Design der Schnittstellenmechanik ermöglicht eine hervorragende Leistung sowohl bei hoher tangentialer Reibung (μ>2,5) als auch bei geringer normaler Haftung (<0,1 N/cm²).

• Speziell für die Halbleiterindustrie entwickelte Polymermaterialien, die durch Mikro- und Nanofertigungstechnologie eine stabile Leistung ohne Dämpfung für 100.000 Wiederverwendungen erreichen.

Anwendung des bionischen Anti-Rutsch-Pads:

(1) Halbleiterindustrie
1. Waferherstellung:
· Rutschfeste Positionierung während der Übertragung von ultradünnen Wafern bis zu 12 Zoll (50-300μm)
· Präzise Fixierung des Waferträgers der Lithographiemaschine
· Wafer-Antirutsch-Einlage für Prüfgeräte

2. Pakettest:
· Zerstörungsfreie Fixierung von Siliziumkarbid-/Galliumnitrid-Leistungsbauelementen
· Anti-Rutsch-Puffer bei der Chipmontage
· Prüfung der Stoß- und Rutschfestigkeit des Tasttisches

(2) Photovoltaikindustrie
1. Silizium-Wafer-Verarbeitung:
· Rutschfeste Fixierung beim Schneiden von monokristallinen Siliziumstäben
· Ultradünne Siliziumscheibe (<150μm) rutschsichere Übertragung
· Positionierung der Siliziumwafer der Siebdruckmaschine

2. Komponentenmontage:
· Glasrückwand rutschhemmend laminiert
· Positionierung der Rahmenmontage
· Bindungsbox fixiert

(3) Photoelektrische Industrie
1. Anzeigefeld:
· Rutschfestes OLED/LCD-Glassubstratverfahren
· Präzise Positionierung des Polarisators
· Stoß- und rutschfeste Prüfgeräte

2. Optische Komponenten:
· Linsenmodulmontage rutschfest
· Prismen-/Spiegelfixierung
· Stoßfestes Laseroptiksystem

(4) Präzisionsinstrumente
1. Die Präzisionsplattform der Lithografiemaschine ist rutschfest
2. Der Messtisch des Detektionsgerätes ist stoßfest
3. Automatische Ausrüstung mechanischer Arm rutschfest

Technische Daten:

Materialzusammensetzung:	C, O, Si
Shore-Härte (A):	50~55
Elastischer Rückstellkoeffizient:	1,28
Obere Toleranztemperatur:	260℃
Reibungskoeffizient:	1.8
PLASMA-Resistenz:	Toleranz

XKH-Dienste:

XKH bietet umfassende kundenspezifische Dienstleistungen für bionische Antirutschmatten an, einschließlich Bedarfsanalyse, Schemaentwicklung, Rapid Proofing und Unterstützung bei der Massenproduktion. Basierend auf Mikro- und Nanotechnologie bietet XKH professionelle Antirutschlösungen für die Halbleiter-, Photovoltaik- und Fotoelektrikindustrie und konnte Kunden bereits dabei unterstützen, signifikante Effekte wie eine Reduzierung der Abriebrate auf 0,005 % und eine Ertragssteigerung von 15 % zu erzielen.