BF33 Glaswafer, fortschrittliches Borosilikatsubstrat, 2″4″6″8″12″

Kurze Beschreibung:

Der BF33-Glaswafer, international unter dem Handelsnamen BOROFLOAT 33 bekannt, ist ein hochwertiges Borosilikat-Floatglas, das von SCHOTT in einem speziellen Microfloat-Produktionsverfahren hergestellt wird. Dieses Herstellungsverfahren liefert Glasscheiben mit außergewöhnlich gleichmäßiger Dicke, ausgezeichneter Oberflächenebenheit, minimaler Mikrorauheit und hervorragender optischer Transparenz.

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Merkmale

Detailliertes Diagramm

Übersicht über BF33-Glaswafer

Ein wesentliches Unterscheidungsmerkmal von BF33 ist sein niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient (CTE) von etwa 3,3 × 10^-6 K^-1, wodurch es ideal auf Siliziumsubstrate abgestimmt ist. Diese Eigenschaft ermöglicht eine spannungsfreie Integration in Mikroelektronik, MEMS und optoelektronischen Geräten.

Hochwertige ultradünne Quarz-Wafer-Dicke 0–1 mm

Materialzusammensetzung des BF33-Glaswafers

BF33 gehört zur Familie der Borosilikatgläser und enthält über80 % Kieselsäure (SiO2), neben Boroxid (B2O3), Alkalioxiden und Spuren von Aluminiumoxid. Diese Formulierung bietet:

Geringere Dichteim Vergleich zu Kalknatronglas, wodurch das Gesamtgewicht der Komponenten reduziert wird.
Reduzierter Alkaligehalt, wodurch die Ionenauswaschung in empfindlichen analytischen oder biomedizinischen Systemen minimiert wird.
Verbesserte Widerstandsfähigkeitgegen chemische Angriffe durch Säuren, Laugen und organische Lösungsmittel.

Produktionsprozess von BF33-Glaswafern

BF33-Glaswafer werden in einer Reihe präzise gesteuerter Schritte hergestellt. Zunächst werden hochreine Rohstoffe – hauptsächlich Siliziumdioxid, Boroxid sowie Spuren von Alkali- und Aluminiumoxiden – genau abgewogen und gemischt. Die Charge wird bei hohen Temperaturen geschmolzen und raffiniert, um Blasen und Verunreinigungen zu entfernen. Beim Microfloat-Verfahren fließt geschmolzenes Glas über geschmolzenes Zinn und bildet so sehr flache, gleichmäßige Platten. Diese Platten werden langsam geglüht, um innere Spannungen abzubauen, dann in rechteckige Platten geschnitten und anschließend zu runden Wafern gestanzt. Die Waferkanten werden für eine längere Haltbarkeit abgeschrägt oder angefast, gefolgt von Präzisionsläppen und beidseitigem Polieren, um ultraglatte Oberflächen zu erzielen. Nach der Ultraschallreinigung im Reinraum wird jeder Wafer einer strengen Prüfung auf Abmessungen, Ebenheit, optische Qualität und Oberflächendefekte unterzogen. Schließlich werden die Wafer in kontaminationsfreie Behälter verpackt, um die Qualität bis zur Verwendung zu erhalten.

Mechanische Eigenschaften von BF33-Glaswafern

Produkt	BOROFLOAT 33
Dichte	2,23 g/cm3
Elastizitätsmodul	63 kN/mm2
Knoop Härte HK 0,1/20	480
Poissonzahl	0,2
Dielektrizitätskonstante (bei 1 MHz und 25 °C)	4.6
Verlustfaktor (bei 1 MHz und 25 °C)	37 x 10-4
Durchschlagsfestigkeit (bei 50 Hz und 25 °C)	16 kV/mm
Brechungsindex	1.472
Dispersion (nF - nC)	71,9 x 10-4

FAQ zu BF33-Glaswafern

Was ist BF33-Glas?

BF33, auch BOROFLOAT® 33 genannt, ist ein hochwertiges Borosilikat-Floatglas, das von SCHOTT im Microfloat-Verfahren hergestellt wird. Es bietet eine geringe Wärmeausdehnung (~3,3 × 10⁻⁶ K⁻¹), ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit, hohe optische Klarheit und hervorragende chemische Beständigkeit.

Wie unterscheidet sich BF33 von normalem Glas?

Im Vergleich zu Kalknatronglas bietet BF33:

Hat einen viel niedrigeren Wärmeausdehnungskoeffizienten, wodurch die Belastung durch Temperaturschwankungen reduziert wird.
Ist chemisch beständiger gegenüber Säuren, Laugen und Lösungsmitteln.
Bietet eine höhere UV- und IR-Durchlässigkeit.
Bietet bessere mechanische Festigkeit und Kratzfestigkeit.

Warum wird BF33 in Halbleiter- und MEMS-Anwendungen verwendet?

Seine Wärmeausdehnung ähnelt stark der von Silizium, wodurch es sich ideal für anodisches Bonden und Mikrofabrikation eignet. Seine chemische Beständigkeit ermöglicht es ihm außerdem, Ätz-, Reinigungs- und Hochtemperaturprozesse ohne Qualitätsverlust zu überstehen.

Hält BF33 hohen Temperaturen stand?

Dauereinsatz: bis ~450 °C
Kurzzeitbelastung (≤ 10 Stunden): bis ~500 °C
Sein niedriger CTE verleiht ihm außerdem eine hervorragende Beständigkeit gegen schnelle Temperaturschwankungen.

Über uns

XKH ist spezialisiert auf die Hightech-Entwicklung, Produktion und den Vertrieb von speziellem optischem Glas und neuen Kristallmaterialien. Unsere Produkte kommen in der optischen Elektronik, der Unterhaltungselektronik und dem Militär zum Einsatz. Wir bieten optische Komponenten aus Saphir, Handy-Objektivabdeckungen, Keramik, LT, Siliziumkarbid (SIC), Quarz und Halbleiterkristall-Wafer an. Dank unserer Fachkompetenz und modernster Ausrüstung sind wir in der Verarbeitung nicht standardisierter Produkte führend und streben danach, ein führendes Hightech-Unternehmen für optoelektronische Materialien zu werden.

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