Aluminiumsubstrat Einkristall-Aluminiumsubstratausrichtung 111 100 111 5×5×0,5 mm

Kurzbeschreibung:

Die Nachfrage nach hochreinen einkristallinen Aluminiumsubstraten (99,99 %) steigt in Technologiebereichen wie der Halbleiterfertigung und hocheffizienten Lichtquellen. In diesem Artikel werden verschiedene Abmessungen dieser Substrate untersucht: 5×5×0,5 mm, 10×10×1 mm und 20×20×1 mm, wobei der Schwerpunkt auf ihren kristallographischen Orientierungen liegt, nämlich (100) und (111). Bemerkenswert ist, dass die (111)-Orientierung eine Gitterkonstante von 4,040 Å aufweist, was die mechanischen und elektrischen Eigenschaften des Materials erheblich beeinflusst. Der außergewöhnliche Reinheitsgrad minimiert das Vorhandensein von Defekten und verbessert so die Leistung des Substrats in elektronischen Anwendungen. Die Ausrichtung der Aluminiumkristalle spielt eine entscheidende Rolle bei der Bestimmung der Oberflächenmorphologie und des Gesamtverhaltens bei der Geräteintegration.

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Spezifikation

Im Folgenden sind die Eigenschaften des Aluminium-Einkristallsubstrats aufgeführt:

Hohe Materialreinheit: Die Reinheit des Aluminiummetall-Einkristallsubstrats kann mehr als 99,99 % erreichen, und der Verunreinigungsgehalt ist sehr niedrig, wodurch die strengen Anforderungen von Halbleitern an hochreine Materialien erfüllt werden können.
Perfekte Kristallisation: Das Aluminium-Einkristallsubstrat wird durch Ziehverfahren gezüchtet und weist eine hochgeordnete Einkristallstruktur, eine regelmäßige Atomanordnung und weniger Defekte auf. Dies begünstigt die anschließende Präzisionsbearbeitung des Substrats.

Hohe Oberflächengüte: Die Oberfläche des Aluminium-Einkristallsubstrats ist präzise poliert und die Rauheit kann den Nanometerbereich erreichen, wodurch die Sauberkeitsstandards der Halbleiterfertigung erfüllt werden.
Gute elektrische Leitfähigkeit: Als Metallmaterial verfügt Aluminium über eine gute elektrische Leitfähigkeit, was die Hochgeschwindigkeitsübertragung von Schaltkreisen auf dem Substrat begünstigt.
Aluminium-Einkristallsubstrat hat mehrere Anwendungen.
1. Herstellung integrierter Schaltkreise: Aluminiumsubstrat ist eines der Hauptsubstrate für die Herstellung von Chips integrierter Schaltkreise. Auf Wafern können komplexe Schaltungslayouts für die Produktion von CPU-, GPU-, Speicher- und anderen integrierten Schaltkreisprodukten hergestellt werden.
2. Leistungselektronische Geräte: Das Aluminiumsubstrat eignet sich zur Herstellung von MOSFETs, Leistungsverstärkern, LEDs und anderen leistungselektronischen Geräten. Seine gute Wärmeleitfähigkeit trägt zur Wärmeableitung des Geräts bei.
3. Solarzellen: Aluminiumsubstrate werden häufig bei der Herstellung von Solarzellen als Elektrodenmaterialien oder Verbindungssubstrate verwendet. Aluminium hat eine gute elektrische Leitfähigkeit und geringe Kostenvorteile.
4. Mikroelektromechanische Systeme (MEMS): Aluminiumsubstrat kann zur Herstellung verschiedener MEMS-Sensoren und Ausführungsgeräte wie Drucksensoren, Beschleunigungsmesser, Mikrospiegel usw. verwendet werden.
Unsere Fabrik verfügt über fortschrittliche Produktionsanlagen und ein technisches Team, das verschiedene Spezifikationen, Dicken und Formen von Aluminium-Einkristallsubstraten entsprechend den spezifischen Anforderungen der Kunden anpassen kann.