2 Zoll 50,8 mm Dicke 0,1 mm 0,2 mm 0,43 mm Saphirwafer C-Ebene M-Ebene R-Ebene A-Ebene

Kurzbeschreibung:

Saphir ist ein Material mit einer einzigartigen Kombination physikalischer, chemischer und optischer Eigenschaften, die es beständig gegen hohe Temperaturen, Thermoschock, Wasser- und Sanderosion sowie Kratzer machen.

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Detaillierte Informationen

Saphirkristall wird häufig in den Bereichen Halbleiter (MOCVD-Galliumnitrid-Epitaxiesubstrat), Uhren, Medizin, Kommunikation, Laser, Infrarot, Elektronik, Messgeräte, Militär und Luft- und Raumfahrt sowie vielen anderen hochmodernen High-Tech-Bereichen eingesetzt. Unser Unternehmen produziert seit langem hochpräzise Saphirwafer mit einer Dicke von ≧ 0,1 mm und einer Außenabmessung von ≧ Φ1 Zoll. Zusätzlich zu den herkömmlichen Φ2 Zoll, Φ3 Zoll, Φ4 Zoll, Φ6 Zoll, Φ8 Zoll, Φ12 Zoll sind auch andere Größen möglich Wenn Sie individuell angepasst werden möchten, wenden Sie sich bitte an unsere Vertriebsmitarbeiter.

Abmessungen: 2 Zoll, 3 Zoll, 4 Zoll, 6 Zoll, 8 Zoll, 12 Zoll

Dicke: 100 um, 280 um, 300 um, 350 um, 430 um, 500 um, 650 um, 1 mm oder andere

Ausrichtung: C-Achse, M-Achse, R-Achse, A-Achse C Fehlschnitt A oder andere

Oberfläche: SSP, DSP, Schleifen

Beschreibung: Saphir ist ein einzelner Aluminiumoxidkristall, der nach Diamant das zweithärteste Material der Natur ist. Saphir hat eine gute Lichtdurchlässigkeit, hohe Festigkeit, Kollisionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen und Drücken sowie Biokompatibilität und kann zu Objekten verschiedener Formen verarbeitet werden. Es ist ein ideales Substratmaterial für die Herstellung optoelektronischer Halbleitergeräte.

Anwendung: Saphir-Einkristall ist ein ausgezeichnetes multifunktionales Material. Es kann in vielen Bereichen wie Industrie, Verteidigung und wissenschaftlicher Forschung (z. B. hochtemperaturbeständige Infrarotfenster) weit verbreitet eingesetzt werden. Gleichzeitig ist es auch ein weit verbreitetes Einkristall-Substratmaterial. Es ist das bevorzugte Substrat für die aktuelle Industrie für blaue, violette und weiße Leuchtdioden (LED) und blaue Laser (LD) (es ist eine Epitaxie einer Galliumnitridfilmschicht auf dem Saphirsubstrat erforderlich) und außerdem ein wichtiges supraleitendes Dünnfilmsubstrat. Zusätzlich zur Produktion von Y-Serien, La-Serien und anderen supraleitenden Hochtemperaturfilmen kann es auch zum Züchten neuer praktischer supraleitender MgB2-Filme (Magnesiumdiborid) verwendet werden.