8-Zoll-Siliziumwafer P/N-Typ (100) 1-100Ω Dummy-Rückgewinnungssubstrat

Kurzbeschreibung:

Wir verfügen über ein großes Lager an doppelseitig polierten Wafern mit Durchmessern von 50 bis 400 mm. Sollte Ihr gewünschter Wafer nicht in unserem Lagerbestand verfügbar sein, arbeiten wir mit zahlreichen Lieferanten zusammen, die Wafer nach individuellen Vorgaben fertigen können. Doppelseitig polierte Wafer eignen sich für Silizium, Glas und andere in der Halbleiterindustrie gängige Materialien.


Merkmale

Einführung der Waferbox

8-Zoll-Siliziumwafer sind ein gängiges Siliziumsubstratmaterial und werden häufig in der Herstellung integrierter Schaltungen eingesetzt. Sie dienen zur Fertigung verschiedenster integrierter Schaltungen, darunter Mikroprozessoren, Speicherchips, Sensoren und andere elektronische Bauelemente. 8-Zoll-Siliziumwafer eignen sich besonders für die Herstellung relativ großer Chips. Zu ihren Vorteilen zählen die größere Oberfläche und die Möglichkeit, mehr Chips auf einem einzigen Wafer zu fertigen, was die Produktionseffizienz steigert. Darüber hinaus weisen 8-Zoll-Siliziumwafer gute mechanische und chemische Eigenschaften auf und sind daher für die Herstellung großflächiger integrierter Schaltungen geeignet.

Produktmerkmale

8" P/N-Typ, polierter Siliziumwafer (25 Stück)

Orientierung: 200

Spezifischer Widerstand: 0,1 - 40 Ohm•cm (Kann von Charge zu Charge variieren)

Dicke: 725 ± 20 µm

Prime/Monitor/Test Grade

MATERIALEIGENSCHAFTEN

Parameter Merkmal
Typ/Dopant P, Bor N, Phosphor N, Antimon N, Arsen
Orientierungen <100>, <111> Schnittrichtungen gemäß Kundenspezifikation
Sauerstoffgehalt 1019ppmA Kundenspezifische Toleranzen gemäß Kundenspezifikation
Kohlenstoffgehalt < 0,6 ppmA

MECHANISCHE EIGENSCHAFTEN

Parameter Prime Monitor/Test A Prüfen
Durchmesser 200±0,2 mm 200 ± 0,2 mm 200 ± 0,5 mm
Dicke 725±20µm (Standard) 725±25µm (Standard) 450±25µm

625±25µm

1000±25µm

1300±25µm

1500±25 µm

725±50µm (Standard)
TTV < 5 µm < 10 µm < 15 µm
Bogen < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Wickeln < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Kantenverrundung SEMI-STD
Markierung Primäre halbflache Ausführung, halbstandardmäßige flache Ausführung, Jeida-Flache, Kerbe
Parameter Prime Monitor/Test A Prüfen
Kriterien für die Vorderseite
Oberflächenbeschaffenheit Chemisch Mechanisch Poliert Chemisch Mechanisch Poliert Chemisch Mechanisch Poliert
Oberflächenrauheit < 2 A° < 2 A° < 2 A°
Kontamination

Partikel >0,3 µm

= 20 = 20 = 30
Dunst, Gruben

Orangenschale

Keiner Keiner Keiner
Säge, Spuren

Streifen

Keiner Keiner Keiner
Kriterien für die Rückseite
Risse, Krähenfüße, Sägespuren, Flecken Keiner Keiner Keiner
Oberflächenbeschaffenheit Ätzend

Detailliertes Diagramm

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