Epitaxialwafer-Technologie der nächsten Generation für LEDs: Die Zukunft der Beleuchtung

Epi-Wafer

LEDs erleuchten unsere Welt, und im Herzen jeder Hochleistungs-LED steckt dieEpitaxialwafer– eine entscheidende Komponente, die Helligkeit, Farbe und Effizienz bestimmt. Durch die Beherrschung der Epitaxieverfahren erschließen Hersteller neue Möglichkeiten für energiesparende und kostengünstige Beleuchtungslösungen.


1. Intelligentere Wachstumstechniken für mehr Effizienz

Das heutige Standardverfahren für das zweistufige Wachstum ist zwar effektiv, schränkt aber die Skalierbarkeit ein. Die meisten kommerziellen Reaktoren produzieren nur sechs Wafer pro Charge. Die Branche orientiert sich daher an folgenden Ansätzen:

    • Hochleistungsreaktorendie mehr Wafer verarbeiten können, wodurch Kosten gesenkt und der Durchsatz gesteigert werden.
    • Hochautomatisierte Einzelwafermaschinenfür höchste Konsistenz und Wiederholbarkeit.

2. HVPE: Ein schneller Weg zu hochwertigen Substraten

Die Hydrid-Dampfphasenepitaxie (HVPE) ermöglicht die schnelle Herstellung dicker GaN-Schichten mit wenigen Defekten, die sich ideal als Substrate für andere Wachstumsverfahren eignen. Diese freistehenden GaN-Filme könnten sogar mit massiven GaN-Chips konkurrieren. Der Haken? Die Schichtdicke ist schwer zu kontrollieren, und die Chemikalien können die Anlagen mit der Zeit schädigen.


3. Seitliches Wachstum: Glattere Kristalle, besseres Licht

Durch die präzise Strukturierung des Wafers mit Masken und Fenstern steuern die Hersteller das Wachstum des GaN nicht nur nach oben, sondern auch seitlich. Diese „laterale Epitaxie“ füllt die Zwischenräume mit weniger Defekten und erzeugt so eine makellosere Kristallstruktur für hocheffiziente LEDs.


4. Pendeo-Epitaxie: Kristalle schweben lassen

Und hier ist etwas Faszinierendes: Ingenieure lassen GaN auf hohen Säulen wachsen und es dann über leere Zwischenräume „brücken“. Dieses schwebende Wachstum beseitigt einen Großteil der Spannungen, die durch Materialunterschiede entstehen, und führt so zu festeren und reineren Kristallschichten.


5. Aufhellung des UV-Spektrums

Neue Materialien ermöglichen es, LED-Licht tiefer in den UV-Bereich auszudehnen. Warum ist das wichtig? UV-Licht kann moderne Leuchtstoffe deutlich effizienter aktivieren als herkömmliche Methoden und ebnet so den Weg für die nächste Generation weißer LEDs, die sowohl heller als auch energieeffizienter sind.


6. Multi-Quantenmulden-Chips: Farbe von innen heraus

Anstatt verschiedene LEDs zu kombinieren, um weißes Licht zu erzeugen, warum nicht alles in einem einzigen Chip integrieren? Multi-Quantentopf-Chips (MQW-Chips) machen genau das: Sie betten Schichten ein, die unterschiedliche Wellenlängen emittieren und das Licht direkt im Chip mischen. Das ist effizient, kompakt und elegant – allerdings komplex in der Herstellung.


7. Lichtrecycling mit Photonik

Sumitomo und die Boston University haben gezeigt, dass durch das Stapeln von Materialien wie ZnSe und AlInGaP auf blauen LEDs Photonen zu einem vollständigen weißen Lichtspektrum „recycelt“ werden können. Diese intelligente Schichttechnik verdeutlicht die faszinierende Verschmelzung von Materialwissenschaft und Photonik im modernen LED-Design.


Wie LED-Epitaxialwafer hergestellt werden

Vom Substrat zum Chip – hier ist der vereinfachte Weg:

    • Wachstumsphase:Substrat → Design → Puffer → N-GaN → MQW → P-GaN → Tempern → Inspektion
    • Fertigungsphase:Maskierung → Lithographie → Ätzen → N/P-Elektroden → Vereinzeln → Sortieren

Dieser sorgfältige Prozess gewährleistet, dass jeder LED-Chip eine Leistung erbringt, auf die Sie sich verlassen können – egal ob Sie Ihren Bildschirm oder Ihre Stadt beleuchten.


Veröffentlichungsdatum: 08.07.2025