Produkte
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AlN auf FSS 2 Zoll 4 Zoll NPSS/FSS AlN-Vorlage für Halbleiterbereich
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Epitaktisch gewachsenes Galliumnitrid (GaN) auf Saphirwafern (4 Zoll, 6 Zoll) für MEMS
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Galliumnitrid auf Siliziumwafer 4 Zoll 6 Zoll Maßgeschneiderte Si-Substratorientierung, spezifischer Widerstand und N-/P-Typ-Optionen
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Kundenspezifische GaN-auf-SiC-Epitaxiewafer (100 mm, 150 mm) – Mehrere SiC-Substratoptionen (4H-N, HPSI, 4H/6H-P)
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GaN-auf-Diamant-Wafer, 4 Zoll, 6 Zoll, Gesamtdicke der Epitaxieschicht (µm) 0,6 ~ 2,5 oder kundenspezifisch für Hochfrequenzanwendungen
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FOSB-Wafer-Trägerbox mit 25 Steckplätzen für 12-Zoll-Wafer. Präzise Abstände für automatisierte Prozesse. Ultrareine Materialien.
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12-Zoll (300 mm) Frontöffnung Versandkarton FOSB Wafer-Transportbox Kapazität 25 Stück für Wafer-Handling und -Versand Automatisierte Abläufe
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Präzisions-Monokristallin-Silizium-Linsen (Si) – Kundenspezifische Größen und Beschichtungen für Optoelektronik und Infrarotbildgebung
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Kundenspezifische hochreine Einkristall-Siliziumlinsen (Si) – Maßgeschneiderte Größen und Beschichtungen für Infrarot- und THz-Anwendungen (1,2–7 µm, 8–12 µm)
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Maßgefertigtes, stufenförmiges optisches Fenster aus Saphir, Al2O3-Einkristall, hohe Reinheit, Durchmesser 45 mm, Dicke 10 mm, lasergeschnitten und poliert
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Hochleistungs-Saphir-Stufenfenster, Al₂O₃-Einkristall, transparent beschichtet, kundenspezifische Formen und Größen für optische Präzisionsanwendungen
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Hochleistungs-Saphir-Hebestift, reiner Al₂O₃-Einkristall für Wafer-Transfersysteme – kundenspezifische Größen, hohe Langlebigkeit für Präzisionsanwendungen