LT Lithiumtantalat (LiTaO3) Kristall 2 Zoll/3 Zoll/4 Zoll/6 Zoll Orientierung Y-42°/36°/108° Dicke 250-500 µm
Technische Parameter
| Name | LiTaO3 in optischer Qualität | Schalltabellenpegel LiTaO3 |
| Axial | Z-Schnitt + / - 0,2 ° | 36°-Y-Schnitt / 42°-Y-Schnitt / X-Schnitt(+ / - 0,2 °) |
| Durchmesser | 76,2 mm + / - 0,3 mm /100±0,2 mm | 76,2 mm ± 0,3 mm100 mm ± 0,3 mm oder 150 ± 0,5 mm |
| Bezugsebene | 22 mm ± 2 mm | 22 mm ± 2 mm32 mm ± 2 mm |
| Dicke | 500 µm ± 5 mm1000 µm ± 5 mm | 500 µm ± 20 mm350 µm ± 20 mm |
| TTV | ≤ 10 µm | ≤ 10 µm |
| Curie-Temperatur | 605 °C + / - 0,7 °C (DTA-Methode) | 605 °C + / -3 °C (DTA-Methode) |
| Oberflächenqualität | Doppelseitiges Polieren | Doppelseitiges Polieren |
| Abgeschrägte Kanten | Kantenverrundung | Kantenverrundung |
Hauptmerkmale
1. Kristallstruktur und elektrische Eigenschaften
• Kristallographische Stabilität: 100% Dominanz des 4H-SiC-Polytyps, keine multikristallinen Einschlüsse (z. B. 6H/15R), mit einer Halbwertsbreite (FWHM) der XRD-Rocking-Kurve von ≤32,7 Bogensekunden.
• Hohe Ladungsträgermobilität: Elektronenmobilität von 5.400 cm²/V·s (4H-SiC) und Lochmobilität von 380 cm²/V·s, was die Entwicklung von Hochfrequenzbauelementen ermöglicht.
•Strahlungsbeständigkeit: Widersteht 1 MeV Neutronenbestrahlung mit einer Verschiebungsschädigungsschwelle von 1×10¹⁵ n/cm², ideal für Luft- und Raumfahrt- sowie Kernkraftanwendungen.
2. Thermische und mechanische Eigenschaften
• Außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit: 4,9 W/cm·K (4H-SiC), dreimal so hoch wie die von Silizium, ermöglicht den Betrieb über 200°C.
• Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: CTE von 4,0×10⁻⁶/K (25–1000°C), wodurch die Kompatibilität mit siliziumbasierten Gehäusen gewährleistet und die thermische Belastung minimiert wird.
3. Fehlerkontrolle und Bearbeitungsgenauigkeit
• Mikrorohrdichte: <0,3 cm⁻² (8-Zoll-Wafer), Versetzungsdichte <1.000 cm⁻² (nachgewiesen durch KOH-Ätzung).
• Oberflächenqualität: CMP-poliert auf Ra <0,2 nm, erfüllt die Anforderungen an die Ebenheit gemäß EUV-Lithographie.
Wichtigste Anwendungsbereiche
| Domäne | Anwendungsszenarien | Technische Vorteile |
| Optische Kommunikation | 100G/400G-Laser, Siliziumphotonik-Hybridmodule | InP-Keimsubstrate ermöglichen eine direkte Bandlücke (1,34 eV) und Si-basierte Heteroepitaxie, wodurch optische Kopplungsverluste reduziert werden. |
| Fahrzeuge mit neuer Energie | 800-V-Hochspannungswechselrichter, Bordladegeräte (OBC) | 4H-SiC-Substrate halten Spannungen von >1.200 V stand, wodurch die Leitungsverluste um 50 % und das Systemvolumen um 40 % reduziert werden. |
| 5G-Kommunikation | Millimeterwellen-HF-Geräte (PA/LNA), Basisstations-Leistungsverstärker | Halbisolierende SiC-Substrate (spezifischer Widerstand >10⁵ Ω·cm) ermöglichen die passive Integration bei hohen Frequenzen (60 GHz+). |
| Industrieausrüstung | Hochtemperatursensoren, Stromwandler, Kernreaktormonitore | InSb-Keimsubstrate (0,17 eV Bandlücke) ermöglichen eine magnetische Empfindlichkeit von bis zu 300 % bei 10 T. |
LiTaO₃-Wafer – Wichtigste Eigenschaften
1. Überlegene piezoelektrische Leistung
• Hohe piezoelektrische Koeffizienten (d₃₃ ~ 8–10 pC/N, K² ~ 0,5 %) ermöglichen Hochfrequenz-SAW/BAW-Bauelemente mit einer Einfügungsdämpfung von < 1,5 dB für 5G-HF-Filter.
• Die ausgezeichnete elektromechanische Kopplung unterstützt Breitbandfilter (≥5 %) für Sub-6-GHz- und Millimeterwellenanwendungen.
2. Optische Eigenschaften
• Breitbandtransparenz (>70 % Transmission von 400–5000 nm) für elektrooptische Modulatoren mit einer Bandbreite von >40 GHz
• Eine starke nichtlineare optische Suszeptibilität (χ⁽²⁾~30 pm/V) ermöglicht eine effiziente Frequenzverdopplung (SHG) in Lasersystemen.
3. Umweltstabilität
• Die hohe Curie-Temperatur (600 °C) erhält die piezoelektrische Reaktion in Umgebungen, die für den Automobilbereich geeignet sind (-40 °C bis 150 °C).
• Chemische Inertheit gegenüber Säuren/Laugen (pH 1-13) gewährleistet Zuverlässigkeit in industriellen Sensoranwendungen
4. Anpassungsmöglichkeiten
• Ausrichtungsoptimierung: X-Schnitt (51°), Y-Schnitt (0°), Z-Schnitt (36°) für maßgeschneiderte piezoelektrische Reaktionen
• Dotierungsoptionen: Mg-dotiert (optische Schadensresistenz), Zn-dotiert (erhöhtes d₃₃)
• Oberflächenveredelung: Epitaxie-geeignetes Polieren (Ra < 0,5 nm), ITO/Au-Metallisierung
LiTaO₃-Wafer – Primäre Anwendungen
1. HF-Frontend-Module
• 5G NR SAW-Filter (Band n77/n79) mit einem Temperaturkoeffizienten der Frequenz (TCF) <|-15ppm/°C|
• Ultrabreitbandige BAW-Resonatoren für WiFi 6E/7 (5,925–7,125 GHz)
2. Integrierte Photonik
• Hochgeschwindigkeits-Mach-Zehnder-Modulatoren (>100 Gbit/s) für kohärente optische Kommunikation
• QWIP-Infrarotdetektoren mit von 3-14 μm abstimmbaren Grenzwellenlängen
3. Automobilelektronik
• Ultraschall-Parksensoren mit einer Betriebsfrequenz von >200 kHz
• TPMS-Piezo-Wandler, die Temperaturzyklen von -40 °C bis 125 °C überstehen
4. Verteidigungssysteme
• EW-Empfängerfilter mit einer Außerbanddämpfung von >60dB
• Infrarotfenster des Raketensuchkopfes, die MWIR-Strahlung im Bereich von 3-5 μm durchlassen
5. Neue Technologien
• Optomechanische Quantenwandler zur Mikrowellen-zu-Optik-Umwandlung
• PMUT-Arrays für die medizinische Ultraschallbildgebung (>20MHz Auflösung)
LiTaO₃-Wafer - XKH Services
1. Lieferkettenmanagement
• Boule-to-Wafer-Verarbeitung mit einer Lieferzeit von 4 Wochen für Standardausführungen
• Kostenoptimierte Produktion mit einem Preisvorteil von 10–15 % gegenüber Wettbewerbern
2. Kundenspezifische Lösungen
• Orientierungsspezifisches Wafering: 36°±0,5° Y-Schnitt für optimale SAW-Leistung
• Dotierte Zusammensetzungen: MgO (5 Mol-%) Dotierung für optische Anwendungen
Metallisierungsdienstleistungen: Cr/Au (100/1000Å) Elektrodenstrukturierung
3. Technischer Support
• Materialcharakterisierung: XRD-Rocking-Kurven (FWHM < 0,01°), AFM-Oberflächenanalyse
• Gerätesimulation: FEM-Modellierung zur Optimierung des SAW-Filterdesigns
Abschluss
LiTaO₃-Wafer ermöglichen weiterhin technologische Fortschritte in den Bereichen HF-Kommunikation, integrierte Photonik und Sensoren für raue Umgebungen. Die Materialexpertise, die Fertigungspräzision und die anwendungstechnische Unterstützung von XKH helfen Kunden, Designherausforderungen in elektronischen Systemen der nächsten Generation zu meistern.









