LT Lithiumtantalat (LiTaO3) Kristall 2 Zoll/3 Zoll/4 Zoll/6 Zoll Orientierung Y-42°/36°/108° Dicke 250-500 µm

Kurzbeschreibung:

LiTaO₃-Wafer stellen ein wichtiges piezoelektrisches und ferroelektrisches Materialsystem dar, das sich durch außergewöhnliche piezoelektrische Koeffizienten, thermische Stabilität und optische Eigenschaften auszeichnet und daher für Oberflächenwellenfilter (SAW-Filter), Volumenwellenresonatoren (BAW-Resonatoren), optische Modulatoren und Infrarotdetektoren unverzichtbar ist. XKH ist auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion hochwertiger LiTaO₃-Wafer spezialisiert und nutzt fortschrittliche Czochralski- (CZ-) und Flüssigphasenepitaxie-Verfahren (LPE), um eine hervorragende Kristallhomogenität mit Defektdichten von <100/cm² zu gewährleisten.

 

XKH liefert 3-, 4- und 6-Zoll-LiTaO₃-Wafer mit verschiedenen kristallographischen Orientierungen (X-, Y- und Z-Schnitt) und ermöglicht kundenspezifische Dotierungen (Mg, Zn) sowie Polungsbehandlungen, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Die Dielektrizitätskonstante (ε ~ ​​40–50), der piezoelektrische Koeffizient (d₃₃ ~ 8–10 pC/N) und die Curie-Temperatur (~ 600 °C) machen LiTaO₃ zum bevorzugten Substrat für Hochfrequenzfilter und Präzisionssensoren.

 

Unsere vertikal integrierte Fertigung umfasst Kristallzüchtung, Waferherstellung, Polieren und Dünnschichtabscheidung mit einer monatlichen Produktionskapazität von über 3.000 Wafern für die Branchen 5G-Kommunikation, Unterhaltungselektronik, Photonik und Verteidigung. Wir bieten umfassende technische Beratung, Probencharakterisierung und Prototypenfertigung in Kleinserien, um optimierte LiTaO₃-Lösungen zu liefern.


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  • Merkmale

    Technische Parameter

    Name LiTaO3 in optischer Qualität Schalltabellenpegel LiTaO3
    Axial Z-Schnitt + / - 0,2 ° 36°-Y-Schnitt / 42°-Y-Schnitt / X-Schnitt(+ / - 0,2 °)
    Durchmesser 76,2 mm + / - 0,3 mm /100±0,2 mm 76,2 mm ± 0,3 mm100 mm ± 0,3 mm oder 150 ± 0,5 mm
    Bezugsebene 22 mm ± 2 mm 22 mm ± 2 mm32 mm ± 2 mm
    Dicke 500 µm ± 5 mm1000 µm ± 5 mm 500 µm ± 20 mm350 µm ± 20 mm
    TTV ≤ 10 µm ≤ 10 µm
    Curie-Temperatur 605 °C + / - 0,7 °C (DTA-Methode) 605 °C + / -3 °C (DTA-Methode)
    Oberflächenqualität Doppelseitiges Polieren Doppelseitiges Polieren
    Abgeschrägte Kanten Kantenverrundung Kantenverrundung

     

    Hauptmerkmale

    1. Kristallstruktur und elektrische Eigenschaften

    • Kristallographische Stabilität: 100% Dominanz des 4H-SiC-Polytyps, keine multikristallinen Einschlüsse (z. B. 6H/15R), mit einer Halbwertsbreite (FWHM) der XRD-Rocking-Kurve von ≤32,7 Bogensekunden.
    • Hohe Ladungsträgermobilität: Elektronenmobilität von 5.400 cm²/V·s (4H-SiC) und Lochmobilität von 380 cm²/V·s, was die Entwicklung von Hochfrequenzbauelementen ermöglicht.
    •Strahlungsbeständigkeit: Widersteht 1 MeV Neutronenbestrahlung mit einer Verschiebungsschädigungsschwelle von 1×10¹⁵ n/cm², ideal für Luft- und Raumfahrt- sowie Kernkraftanwendungen.

    2. Thermische und mechanische Eigenschaften

    • Außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit: 4,9 W/cm·K (4H-SiC), dreimal so hoch wie die von Silizium, ermöglicht den Betrieb über 200°C.
    • Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient: CTE von 4,0×10⁻⁶/K (25–1000°C), wodurch die Kompatibilität mit siliziumbasierten Gehäusen gewährleistet und die thermische Belastung minimiert wird.

    3. Fehlerkontrolle und Bearbeitungsgenauigkeit
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    • Mikrorohrdichte: <0,3 cm⁻² (8-Zoll-Wafer), Versetzungsdichte <1.000 cm⁻² (nachgewiesen durch KOH-Ätzung).
    • Oberflächenqualität: CMP-poliert auf Ra <0,2 nm, erfüllt die Anforderungen an die Ebenheit gemäß EUV-Lithographie.

    Wichtigste Anwendungsbereiche

    Domäne

    Anwendungsszenarien

    Technische Vorteile

    Optische Kommunikation

    100G/400G-Laser, Siliziumphotonik-Hybridmodule

    InP-Keimsubstrate ermöglichen eine direkte Bandlücke (1,34 eV) und Si-basierte Heteroepitaxie, wodurch optische Kopplungsverluste reduziert werden.

    Fahrzeuge mit neuer Energie

    800-V-Hochspannungswechselrichter, Bordladegeräte (OBC)

    4H-SiC-Substrate halten Spannungen von >1.200 V stand, wodurch die Leitungsverluste um 50 % und das Systemvolumen um 40 % reduziert werden.

    5G-Kommunikation

    Millimeterwellen-HF-Geräte (PA/LNA), Basisstations-Leistungsverstärker

    Halbisolierende SiC-Substrate (spezifischer Widerstand >10⁵ Ω·cm) ermöglichen die passive Integration bei hohen Frequenzen (60 GHz+).

    Industrieausrüstung

    Hochtemperatursensoren, Stromwandler, Kernreaktormonitore

    InSb-Keimsubstrate (0,17 eV Bandlücke) ermöglichen eine magnetische Empfindlichkeit von bis zu 300 % bei 10 T.

     

    LiTaO₃-Wafer – Wichtigste Eigenschaften

    1. Überlegene piezoelektrische Leistung

    • Hohe piezoelektrische Koeffizienten (d₃₃ ~ 8–10 pC/N, K² ~ 0,5 %) ermöglichen Hochfrequenz-SAW/BAW-Bauelemente mit einer Einfügungsdämpfung von < 1,5 dB für 5G-HF-Filter.

    • Die ausgezeichnete elektromechanische Kopplung unterstützt Breitbandfilter (≥5 %) für Sub-6-GHz- und Millimeterwellenanwendungen.

    2. Optische Eigenschaften

    • Breitbandtransparenz (>70 % Transmission von 400–5000 nm) für elektrooptische Modulatoren mit einer Bandbreite von >40 GHz

    • Eine starke nichtlineare optische Suszeptibilität (χ⁽²⁾~30 pm/V) ermöglicht eine effiziente Frequenzverdopplung (SHG) in Lasersystemen.

    3. Umweltstabilität

    • Die hohe Curie-Temperatur (600 °C) erhält die piezoelektrische Reaktion in Umgebungen, die für den Automobilbereich geeignet sind (-40 °C bis 150 °C).

    • Chemische Inertheit gegenüber Säuren/Laugen (pH 1-13) gewährleistet Zuverlässigkeit in industriellen Sensoranwendungen

    4. Anpassungsmöglichkeiten

    • Ausrichtungsoptimierung: X-Schnitt (51°), Y-Schnitt (0°), Z-Schnitt (36°) für maßgeschneiderte piezoelektrische Reaktionen

    • Dotierungsoptionen: Mg-dotiert (optische Schadensresistenz), Zn-dotiert (erhöhtes d₃₃)

    • Oberflächenveredelung: Epitaxie-geeignetes Polieren (Ra < 0,5 nm), ITO/Au-Metallisierung

    LiTaO₃-Wafer – Primäre Anwendungen

    1. HF-Frontend-Module

    • 5G NR SAW-Filter (Band n77/n79) mit einem Temperaturkoeffizienten der Frequenz (TCF) <|-15ppm/°C|

    • Ultrabreitbandige BAW-Resonatoren für WiFi 6E/7 (5,925–7,125 GHz)

    2. Integrierte Photonik

    • Hochgeschwindigkeits-Mach-Zehnder-Modulatoren (>100 Gbit/s) für kohärente optische Kommunikation

    • QWIP-Infrarotdetektoren mit von 3-14 μm abstimmbaren Grenzwellenlängen

    3. Automobilelektronik

    • Ultraschall-Parksensoren mit einer Betriebsfrequenz von >200 kHz

    • TPMS-Piezo-Wandler, die Temperaturzyklen von -40 °C bis 125 °C überstehen

    4. Verteidigungssysteme

    • EW-Empfängerfilter mit einer Außerbanddämpfung von >60dB

    • Infrarotfenster des Raketensuchkopfes, die MWIR-Strahlung im Bereich von 3-5 μm durchlassen

    5. Neue Technologien

    • Optomechanische Quantenwandler zur Mikrowellen-zu-Optik-Umwandlung

    • PMUT-Arrays für die medizinische Ultraschallbildgebung (>20MHz Auflösung)

    LiTaO₃-Wafer - XKH Services

    1. Lieferkettenmanagement

    • Boule-to-Wafer-Verarbeitung mit einer Lieferzeit von 4 Wochen für Standardausführungen

    • Kostenoptimierte Produktion mit einem Preisvorteil von 10–15 % gegenüber Wettbewerbern

    2. Kundenspezifische Lösungen

    • Orientierungsspezifisches Wafering: 36°±0,5° Y-Schnitt für optimale SAW-Leistung

    • Dotierte Zusammensetzungen: MgO (5 Mol-%) Dotierung für optische Anwendungen

    Metallisierungsdienstleistungen: Cr/Au (100/1000Å) Elektrodenstrukturierung

    3. Technischer Support

    • Materialcharakterisierung: XRD-Rocking-Kurven (FWHM < 0,01°), AFM-Oberflächenanalyse

    • Gerätesimulation: FEM-Modellierung zur Optimierung des SAW-Filterdesigns

    Abschluss

    LiTaO₃-Wafer ermöglichen weiterhin technologische Fortschritte in den Bereichen HF-Kommunikation, integrierte Photonik und Sensoren für raue Umgebungen. Die Materialexpertise, die Fertigungspräzision und die anwendungstechnische Unterstützung von XKH helfen Kunden, Designherausforderungen in elektronischen Systemen der nächsten Generation zu meistern.

    Laserholographische Fälschungsschutzausrüstung 2
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