Elektroden-Saphirsubstrat und Wafer-C-Ebenen-LED-Substrate

Kurzbeschreibung:

Aufgrund der kontinuierlichen Weiterentwicklung der Saphirtechnologie und der rasanten Expansion des Anwendungsmarktes werden 4-Zoll- und 6-Zoll-Substratwafer aufgrund ihrer inhärenten Vorteile bei der Produktionsnutzung von den großen Chipherstellern verstärkt eingesetzt.


Merkmale

Spezifikation

ALLGEMEIN

Chemische Formel

Al2O3

Kristallstruktur

Hexagonales System (hk o 1)

Dimension der Einheitszelle

a=4,758 Å, Å c=12,991 Å, c:a=2,730

PHYSISCH

 

Metrisch

Englisch (Imperial)

Dichte

3,98 g/cm³

0,144 lb/in³

Härte

1525 - 2000 Knoop, 9 mhos

3700° F

Schmelzpunkt

2310 K (2040° C)

 

STRUKTURELL

Zugfestigkeit

275 MPa bis 400 MPa

40.000 bis 58.000 psi

Zugfestigkeit bei 20° C

 

58.000 psi (Auslegungsmin.)

Zugfestigkeit bei 500 °C

 

40.000 psi (Auslegungsmin.)

Zugfestigkeit bei 1000° C

355 MPa

52.000 psi (Auslegungsmin.)

Biegefestigkeit

480 MPa bis 895 MPa

70.000 bis 130.000 psi

Druckfestigkeit

2,0 GPa (ultimativ)

300.000 psi (maximaler Druck)

Saphir als Substrat für Halbleiterschaltungen

Dünne Saphir-Wafer waren die erste erfolgreiche Anwendung eines isolierenden Substrats, auf dem Silizium abgeschieden wurde, um integrierte Schaltungen herzustellen, die als Silizium-auf-Saphir (SOS) bezeichnet werden. Saphir besitzt neben seinen hervorragenden elektrischen Isolationseigenschaften eine hohe Wärmeleitfähigkeit. CMOS-Chips auf Saphir eignen sich besonders für Hochleistungs-Hochfrequenzanwendungen (HF), wie z. B. Mobiltelefone, Funkgeräte für die öffentliche Sicherheit und Satellitenkommunikationssysteme.

Einkristalline Saphir-Wafer werden in der Halbleiterindustrie auch als Substrate für die Herstellung von Galliumnitrid (GaN)-basierten Bauelementen verwendet. Der Einsatz von Saphir senkt die Kosten erheblich, da er nur etwa ein Siebtel der Kosten von Germanium beträgt. GaN auf Saphir wird häufig in blauen Leuchtdioden (LEDs) eingesetzt.

Verwendung als Fenstermaterial

Synthetischer Saphir (manchmal auch Saphirglas genannt) wird häufig als Fenstermaterial verwendet, da er im Wellenlängenbereich von 150 nm (Ultraviolett) bis 5500 nm (Infrarot) – das sichtbare Spektrum reicht von etwa 380 nm bis 750 nm – hochtransparent ist und eine sehr hohe Kratzfestigkeit aufweist. Wichtigste Vorteile von Saphirfenstern

Enthalten

Extrem breite optische Übertragungsbandbreite, von UV- bis Nahinfrarotlicht

Stärker als andere optische Materialien oder Glasfenster

Äußerst kratz- und abriebfest (Mineralhärte von 9 auf der Mohs-Skala, nach Diamant und Moissanit die zweithöchste unter den natürlichen Substanzen)

Sehr hoher Schmelzpunkt (2030°C)

Detailliertes Diagramm

Elektrode Saphirsubstrat und Wafer (1)
Elektrode Saphirsubstrat und Wafer (2)

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